磁控溅射（共溅射）-仪表网

公司介绍主营产品

深圳海创德科技有限公司成立于2012年，由数位理工科博士创办，团队成员均为理工科博士和硕士，具有高水平的专业水准。公司致力于半导体微加工及分析设备的销售和安装服务，产品覆盖薄膜制备，物性测量和表面分析。经营的主要产品如下：1. 磁控溅射、电子束蒸发、热蒸发、PECVD、LPCVD、ALD、RIE、ICP、RTP、涂胶机和热板等薄膜技术相关的设备；2. 美国Kimball Physics的电子枪、离子枪、真空腔体和荧光屏等部件；美国OCI的LEED和AES等各种真空组件；美国MicroXact的真空、低温和磁场等数种探针台；3. 我们还提供上述设备的配套部件及耗材，如直流和射频电源、靶材、探针、光刻胶和ALD耗材等。我们的产品性价比高，品质精良，性能优越，在欧美及中国台湾地区具有的口碑，国内众多的科研院所和大学均对我们的产品报以好评。我们期待以优质的产品，良好的服务和专业的技术为更多的客户提供解决方案！期待与您的合作！

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磁控溅射是物理气相沉积技术(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一种

磁控溅射（共溅射）产品详情

磁控溅射是物理气相沉积技术(Physical Vapor Deposition, PVD)的一种。一般用于制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料，具有设备简单、易于控制、效率高，面积大等优点。

磁控溅射原理：通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。

技术参数：

1 本底真空：10^-7Torr到10^-9Torr；

2 单基片设计，尺寸可定制，常规尺寸2-6英寸；

3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；

4 最多可拓展8支磁控溅射靶枪，可共溅射；

5 靶枪角度可调，溅镀距离可调，可升级强磁靶；

6 可选配多路气路；

7 防交叉污染隔板设计；

8 可配备离子束辅助沉积；

9 可配备样品预清洗功能；

10 可配备快速进样室；

11 可配备自动压力控制系统；

12 全自动操作系统；

关键词：控制系统

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