嘉仪通 高温快速退火炉用于半导体快速退火，该设备可实现大尺寸样品（4英寸样品）快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到好的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等研究和生产工作起到重要作用。
嘉仪通 高温快速退火炉用于半导体快速退火 该设备优点有以下几种：
可测大尺寸样品：可测单晶片样品的尺寸为4英寸。
可远程操作：提供远程监控模块。
压力控制系统创新设计：高精度控制压力，以满足不同的工艺要求。
存储热处理工艺：方便工艺参数调取，提高实验效率，数据可查询。
快速控温与高真空：升温速率可达150℃/s，真空度可达到10-3Pa。
程序设定与气路扩展：可实现不同温度段的精确控制，进行降温段的自动转接，并能够对工艺菜单进行保存，方便调用。采用MFC精确控制气体流量，实现不同气氛环境（真空、氮气等）下的热处理。
腔体空间设计：保证大尺寸样品的温场均匀性 ≤1.5%。
全自动智能控制：采用全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空、冷却水等均可实现自动控制。
超高安全系数：采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，多方位保障设备使用安全。
国产退火炉：拥有自主研发技术和制造能力，能快速反应客户售后需求。
