主要技术指标
主要用于：Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Sn等多种基体元素。光学系统：采用帕型--龙格罗兰圆全谱真空型光学系统
波长范围：170~580nm
焦距：400mm
探测器：高性能CCD阵列
光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）
放电频率：100-1000Hz
放电电流：400A
工作电源：220VAC 50/60Hz
仪器尺寸：720*860*360
仪器重量：约100kg（不含真空系统）
检测时间：依据样品类型而定，一般25S左右
电极：钨材喷射电极
分析间隙：真空软件自动控制、监测
主要性能特点
1、高性能光学系统《1》光学系统激发时产生的弧焰由透镜直接导入真空光学室，实现光路直通，有效的降低光路损耗；《2》高性能光学系统设计及采用高精度的光学元件可精确测定非金属元素中C、P、S、N以及各种元素含量；《3》测定结果精准，重现及长期稳定性。
2、自动光路校准：《1》自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；《2》仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。
3、单板式透镜设计：《1》真空光学系统采用的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用单板式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。《2》在日常工作中仪器无需维护，也没有消耗品及更换零部件。
4、真空室一体化：《1》的光室结构设计，使真空室容积更小，抽真空速度不到普通光谱仪的一半。《2》真空室一体化设计及高精密的加工，使真空保持的更加持久。
5、真空防返油技术：《1》多级隔离的真空防返油技术，采用真空压紧、挡板阀保证真空泵不工作时间真空光室与真空隔离。《2》中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CCD检测器及光学元件在可靠环境中工作。
6、开放式激发台：《1》开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析。《2》配合使用小样品夹具，线材分析可达到1.5mm。
7、喷射电极技术：《1》采用*的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度。《2》配上氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。
8、集成气路模块：《1》激发台采用散热性能好的合金材料制作，不仅坚固、耐用而且清洁方便。《2》供气系统采用集成气路模块，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。
9、全数字化激发光源：《1》全数字激发光源，采用*的等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品。《2》全数字激发脉冲，确保激发样品等离子体超高分辨率和高稳定率输出。《3》满足各种不同材料的激发要求。
10、高速数据采集：《1》仪器采用高性能CCD器件，紫外镀膜技术及高性能FPGA、ＤＳＰ及ＡＲＭ处理器。《２》具有超高速数据采集分析功能，并能自动实时监测控制光室温度、真空度、氩气压力、光源、激发室等模块的运行状态。
11、以太数据传输：《１》计算机和光谱仪之间使用以太网卡和TCP/IP协议，避免电磁干扰，光纤老化的弊端，同时计算机和打印机外置，方便升级和更换。《2》完备的网络系统。《3》可以远程监控仪器状态，多通路操控系统控制和监控所有的仪器参数。
12、预制工作曲线：《1》根据元素和材质对应的分析程序而稍有差异，激发和测试参数仪器出厂时已经调节好，根据分析程序可自动择优测试条件。《2》长期以来工厂积累了大量的经验以及全面的标样库，仪器出厂时工厂预制工作曲线，使用户拿到仪器后可投入使用。《3》技术规格中附有分析范围（并可根据用户提供标样免费绘制或延长工作曲线）。
13、分析速度快捷：《1》分析速度快捷，为客户节约了宝贵的时间，20秒内可测完所有通道的元素成分。《2》针对不同的分析材料，通过设置预燃时间及测量时间，使仪器用短时间达到不错的分析效果。
14、多基体分析：《1》光路设计采用罗栏园结构，CCD上下交替排列，保证接收全部的谱线，不增加硬件设施，即可实现多基体分析。《2》便于根据生产的需要增加基体及材料种类和分析元素。《3》相比光电倍（PMT）光谱仪可大大减低使用成本及使用范围。
15、软件多国语言：《1》仪器操作软件兼容于Windows系统，同时可以根据客户需求配备各种语言版本。《2》软件操作简单，即使没有任何光谱仪知识及操作经验的人员只需经过简单的知识培训即可上手使用。
