Talint EDU: 模块化、高性价比的X射线相衬、暗场成像套件
X射线相位衬度成像和传统的X射线吸收成像相比，X射线相位衬度成像能够为轻元素样品提供更高的衬度，特别适合用于对软组织和轻元素构成的样品进行成像。
目前，主要的5类相衬成像方式中，大部分对光源的相干性要求，只能在同步辐射光源或者借助微焦点X射线源实现。而光栅法相衬成像，经过十多年的发展，已经成为在实验室实施相衬成像实验的主流技术路线。
但是，高深宽比和大视场光栅的制作一直是困扰研究人员的一个痛点，LIGA技术的出现及成熟，使得制作此类的光栅的制作变得更加的容易及可靠。
基于X射线相衬成像的光栅利用Talbot自成像效应来获取有关X射线因折射和散射而产生的微小角度偏转的信息。这在医学成像到材料研究等各个领域都有潜在的应用。
但是对于刚进入这一研究领域的科研工作者或者想单纯快速相衬图片的用户来说，繁琐的光栅参数模拟、全新开模制作光栅价格昂贵、与此同时精密平移台的选择及精密调节都将耗费大量的精力。
为了解决的这个问题，德国microworks公司推出了一套模块化、高性价比的X射线相衬、暗场成像套件
TALINT EDU
Microworks的TALINTEDU系统是一种紧凑、物美价廉的TALbot干涉仪套件。它是X射线Talbot-Lau干涉仪的巧妙简化形式，包括所有必要的硬件来建立和微调干涉仪，以及通过相位步进步骤来获得三种成像模式应用：吸收成像、相衬成像和暗场成像。
在不到半小时的时间内，它可以像另一个探测器一样容易安装。 对于这个简化的系统来说图 像采集是手动的，在相位步进过程中获得的图像非常适合于图像分析科学家。
选择光栅组 （含3块光栅）
| 标准规格参数 | 设计能量-40 keV | 设计能量-21 keV |
| 光栅周期（3块） | 6.00μm | 4.80μm |
| G0 G2 吸收材料及高度 | 金＞150μm | 金＞50μm |
| G0 G2 光栅占空比 | 0.55（容差范围0.5-0.6） | 0.55（容差范围0.5-0.6） |
| G0 G2 光栅衬底 | 石墨 400μm | 石墨 400μm |
| G1 相移材料及高度 | Gold 7.7 μm (40 keV) | Nickel 7.4 μm (21 keV) |
| G1 光栅占空比 | 0.5（容差范围0.45-0.55） | 0.5（容差范围0.45-0.55） |
| G1 光栅基底 | 硅 200μm | 硅 200μm |
| 视场范围（样品） | 35mm | 35mm |
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CFRP拉伸试验试棒
| 吸收像 | 相位像 | 暗场像 |
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相衬成像增强了空腔折射信号的成像衬度
暗场成像增强了由纤维束引起的散射信号的成像衬度
裂纹损伤
| 吸收像 | 暗场像 |
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暗场成像增强了发丝状裂纹散射信号的成像衬度
3D打印钛波纹管
| 照片 | 吸收像 | 暗场像 |
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暗场成像增强了残留粉末散射信号的成像衬度
