碳化硅氧化炉 真空退火炉 高温扩散炉
★可处理硅片尺寸：2—8英寸
★外型形式：卧式1—4管结构
★工作温度：200℃—1300℃
★恒温区长度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
★单点温度稳定性、重复性：≤±0.5℃／24h
碳化硅氧化炉 真空退火炉 高温扩散炉
碳化硅氧化炉 真空退火炉 高温扩散炉
CL系列的扩散炉为我公司根据客户需求定制的专用设备，用于太阳能电池片生产过程中对硅片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺，该设备具有：关键部件进口、自动化程度高、温度均匀、控制稳定、寿命长等特点，是理想的科研及生产设备。
主要技术指标：
★可处理硅片尺寸：2—8英寸
★外型形式：卧式1—4管结构
★工作温度：200℃—1300℃
★恒温区长度及精度：200mm—1100mm≤±0.5℃
★单点温度稳定性、重复性：≤±0.5℃／24h
★温度斜变：可控升温速率20℃／min，
★可控降温速率：5℃／min
★送片装置：全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
★气路系统：1—5路工艺气体／管
★气体控制：全自动MFC、手动浮子流量计
★控制方式：工控机、触摸屏
青岛晨立电子有限公司成立于2009年，是专业半导体工艺设备及xian进材料专用设备研发、生产、销售厂家，是山东省半导体行业协会重点骨干企业，“专精特新”企业。为客户提供xian进材料热处理、高精度电加热设备及系统集成等全套解决方案。
主要产品：高低温扩散炉、实验炉、共晶炉、烧结炉、加磁炉、高精度智能温度控制系统和替代进口的扩散炉炉体等，同时承接各种微电子生产线，进口半导体专用设备的翻新升级改造及各大专院校科研院所的非标研发定制工作。
