透反射型偏光熔点仪 XPR-800详细技术参数
一、仪器的用途
透反射热台偏光显微镜是地质、矿产、冶金、石油化工、化学纤维、半导体工业以及药品检验等部门和相关高等院校的高分子等专业的专业实验仪器。与光学或电子显微镜配合使用，在微观上观察其溶化、升华、结晶过程中的状态和各种变化。
专为材料学、生物化学、冶金学、有机化学、高分子材料学而研制。观察高聚物熔融和结晶过程中的形态,结晶速率及动力学计算；观察双折射体的光学效应；微生物形貌观察；组织细胞核、壁形态观察；地质材料偏光形态观察；无机晶体材料观察,特别对含有结晶体的材料进行热性能变化的研究更为重要。
专为材料学、生物化学、冶金学、有机化学、高分子材料学而研制。观察高聚物熔融和结晶过程中的形态,结晶速率及动力学计算；观察双折射体的光学效应；微生物形貌观察；组织细胞核、壁形态观察；地质材料偏光形态观察；无机晶体材料观察,特别对含有结晶体的材料进行热性能变化的研究更为重要。
二、技术参数
1.目镜
| 类别 | 放大倍数 | 视场(mm) |
| 大视野目镜 | 10X | φ18 |
| 分划目镜 | 10X | φ18 |
2.物镜
| 类别 | 放大倍数 | 数值孔径(NA) | 盖玻片厚 |
| 无应力平场 消色差物镜 | 5X | 0.12 | - |
| 10X | 0.25 | - | |
| 40X | 0.65 | - | |
| 60X | 0.85 | - |
3.总放大倍数：40X---600
4.目镜管：转轴式（倾斜30°），内置检偏器,可自由切换正常观察与偏光观察,推入式
勃氏镜,中心可调,λ补偿器,λ/4 补偿器,石英锲补偿器
5.透射照明：6V 20W卤素灯,亮度可调,起偏器可360°旋转有0、90、180、270四个读数
反射照明: 6V 20W卤素灯,亮度可调, 起偏器可旋转；
6.载物台：机械式附加旋转台面 尺寸 φ100mm， 360°旋转
7.调焦机构：粗微动同轴，齿轮转动 , 带限位及调节松紧机构
8.聚光镜：阿贝聚光镜NA1.25，升降上下可调
9.防霉系统:防霉
10.高精度偏光熔点热台 XPH-300
①工作温度：室温 至320℃(可达350℃)
②起始温度设定速率：50℃至300℃小于12min ; 300℃至50℃小于15min
③仪器温度最小读数：0.1℃
④加热台温度控制准确度： 室温-200℃时:±0.5℃; 200-320℃时:±1℃
⑤起始温度设定准确度：±1℃
⑥线性升温速率（℃/min）：0.2；0.5
降温速度:可设置降到到的温度,从而达到在此温度的恒温.
⑦线性升温速率偏差：±10%
4.目镜管：转轴式（倾斜30°），内置检偏器,可自由切换正常观察与偏光观察,推入式
勃氏镜,中心可调,λ补偿器,λ/4 补偿器,石英锲补偿器
5.透射照明：6V 20W卤素灯,亮度可调,起偏器可360°旋转有0、90、180、270四个读数
反射照明: 6V 20W卤素灯,亮度可调, 起偏器可旋转；
6.载物台：机械式附加旋转台面 尺寸 φ100mm， 360°旋转
7.调焦机构：粗微动同轴，齿轮转动 , 带限位及调节松紧机构
8.聚光镜：阿贝聚光镜NA1.25，升降上下可调
9.防霉系统:防霉
10.高精度偏光熔点热台 XPH-300
①工作温度：室温 至320℃(可达350℃)
②起始温度设定速率：50℃至300℃小于12min ; 300℃至50℃小于15min
③仪器温度最小读数：0.1℃
④加热台温度控制准确度： 室温-200℃时:±0.5℃; 200-320℃时:±1℃
⑤起始温度设定准确度：±1℃
⑥线性升温速率（℃/min）：0.2；0.5
降温速度:可设置降到到的温度,从而达到在此温度的恒温.
⑦线性升温速率偏差：±10%
四、系统组成
电脑型(XPR-800V)：1.显微镜 2.适配镜 3.摄像器 4.A/D(图像采集) 5.XPH热台
数码型(XPR-800D)：1.显微镜 2.适配镜 3.数码相机 4.XPH热台
数码型(XPR-800D)：1.显微镜 2.适配镜 3.数码相机 4.XPH热台
五、总放大参考倍数
XPR-800V型：50--3400倍 XPR-800D型：50--2000倍
六、选购件
1.目镜：16X(Φ11mm) 2.物镜：20X 50X 80X 100X
3.移动尺(30X25mm) 4.偏光显微镜分析软件
5.图像测量软件
3.移动尺(30X25mm) 4.偏光显微镜分析软件
5.图像测量软件
