1. 应用
1) MPCVD钻石培育。
2) MOCVD半导体。
3) 电子芯片。
4) 色谱分析。
5) 粉末冶金。
6) 核能
7) 光伏。
2. 特点
1) 基于钯膜的氢分离，输出氢纯度高（≥7N）。
2) 寿命长，维护成本低。
3) 安装便捷，使用简单。
4) 原料氢气适配广。
5) 流量可达5NL/min。
3. 技术规格
型号
HP-005
基本参数
纯化原理
金属钯膜/氢气纯化
高纯氢输出纯度①
≥99.99999%（纯度）
高纯氢输出流量
5NL/min（氢气流量随压力变化曲线见下图）
原料氢要求
纯度≥99.99%
原料氢输入压力
≤1 Mpa
高纯氢输出压力
≤5 barg
原料氢输入接口
1/4"VCRM
高纯氢输出接口
1/4"VCRM
废气输出接口
1/4"双卡套接头
工作温度
（-10～55）℃
环境湿度
（0～85）%RH
尺 寸
600 L*450 W*500 H（mm）
重 量
25 KG
工作电源
230V/50-60Hz
功率
1KW
① 输出高纯氢纯度与原料氢气纯度有关，原料氢纯度越高，输出氢气纯度越高。
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