金属零部件Showerhead中文名叫喷淋头、气体分配盘或匀气盘
结构设计
微孔结构：半导体 Showerhead 表面布满了几百上千个微小的通孔，孔径通常在 0.2-6mm 之间。这些微孔的大小、分布、形状和喷射角度等都是根据具体工艺精确设计的，以确保气体能够均匀地分配到反应腔中2。
气体通道：内部有复杂的气体通道结构，用于引导和分配不同的气体，使它们在到达反应腔之前能够充分混合和均匀分布，以满足半导体工艺对气体流量和浓度的精确要求。
材料分类1
金属 Showerhead：材质包括铝合金、不锈钢和镍金属等，其中铝合金是zuiguang泛使用的材料，因为它具有良好的导热性能、较强的抗腐蚀能力，来源广泛且易于加工。
非金属 Showerhead：材质包括碳化硅（CVD-SiC）、单晶硅、石英玻璃和高纯度陶瓷等，主要应用在芯片加工设备的关键工艺制程位置，对材质和加工后的零件质量，尤其是孔的一致性要求jigao。
功能作用
气体均匀分配：将各种工艺气体均匀地喷射到反应腔室内的晶圆表面，确保晶圆不同区域能够均匀地 “沐浴” 在工艺气体中，从而提高生产效率和产品质量，保证沉积膜层的均匀性和一致性2。
参与化学反应：在化学气相沉积（CVD）等工艺中，Showerhead 将不同的前驱体气体混合并喷射到衬底表面，使其在一定条件下发生化学反应，形成所需的薄膜，如硅氧化物、多晶硅、金属氧化物等2。
控制反应环境：用于控制反应腔室内的气氛和温度，提供精确的气体混合物，并在所需的位置产生均匀的气体，确保反应腔室内的气体分布均匀，实现稳定的沉积过程2。
形成均匀电场：在等离子体辅助工艺（如 PECVD、干法刻蚀）中，Showerhead 作为电极的一部分，通过射频电源产生均匀电场，促进等离子体均匀分布，进而提升刻蚀或沉积的均匀性2。
应用领域
刻蚀工艺：在刻蚀设备中，Showerhead 用于精确控制刻蚀气体的流量和分布，确保对晶圆表面的精确刻蚀，以形成所需的电路图案和结构4。
沉积工艺：如化学气相沉积（CVD）、物理气相沉积（PVD）等，Showerhead 将沉积材料的前驱体气体均匀地输送到晶圆表面，实现薄膜的生长和沉积2。
清洗工艺：在半导体清洗设备中，Showerhead 可以将清洗液或气体均匀地喷射到晶圆表面，去除表面的杂质和污染物，保证晶圆的清洁度。
