- 商品简介
- 仪器介绍：SGC-10薄膜测厚仪，适用于介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。该薄膜测厚仪，是我公司与美国new-span公司合作研制的，采用new-span公司的薄膜测厚技术，基于白光干涉的原理来测定薄膜的厚度和光学常数（折射率n，消光系数k）。通过分析薄膜表面的反射光和薄膜与基底界面的反射光相干形成的反射谱，用软件来拟合运算，得到单层或多层膜系各层的厚度d，折射率n，消光系数k。该设备关键部件均为国外进口，也可根据客户需要整机进口。强大的软件功能：界面友好，操作简便，用户点击几下鼠标就可以完成测量。便捷快速的保存、读取测量得到的反射谱数据数据处理功能强大，可同时测量多达四层的薄膜的反射率数据。一次测量即可得到四层薄膜分别的厚度和光学常数等数据。材料库中包含了大量常规的材的光学常数数据。用户可以非常方便地自行扩充材料数据库。产品功能适用性：该仪器适用于多种介质，半导体，薄膜滤光片和液晶等薄膜和涂层的厚度测量。典型的薄膜材料为：SiO2、CaF2、MgF2、光刻胶、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO2、聚酰亚胺、高分子膜。典型的基底材料为：SiGe、GaAs、ZnS、ZnSe、铝丙烯酸、蓝宝石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。
仪器具有开放性设计，仪器的光纤探头可很方便地取出，通过仪器附带的光纤适配器（如图所示）连接到带C-mount的显微镜（显微镜需另配），就可以使本测量仪适用于微区（>10μm，与显微镜放大率有关）薄膜厚度的测量。
技术指标：
名称参数厚度范围20nm-50um（只测膜厚），100nm-10um（同时测量膜厚和光学常数n，k）根据薄膜材料的种类，其范围有所不同。准确性<1nm或<0.5%重复性0.1nm波长范围380nm-1000nm可测层数1-4层样品尺寸样品镀膜区直径>1.2mm测量速度5s-60s光斑直径1.2mm-10mm可调样品台290mm*160mm光源长寿命溴钨灯（2000h）光纤纯石英宽光谱光纤探测器进口光纤光谱仪电源AC100V-240V，50HZ-60HZ重量18kg尺寸300mm*300mm*350mm
