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一、主要测试功能：
1薄膜及波导折射率/厚度/光损测量
2体材料折射率的测量
3薄膜及体材料的双折射测量
4液体折射率的测量
5折射率随温度变化的测量分析
6折射率随深度变化的测量分析
二、主要应用领域：
1光波导器件芯片的制备
2激光晶体的制备
3聚合物材料的属性研究
4显示技术材料的测量
5光/磁存储材料的测量
6光学薄膜的制备
产品编号：Prism Coupler- SPA-4000
产品类别：检测仪器
一、主要测试功能：
1薄膜及波导折射率/厚度/光损测量
2体材料折射率的测量
3薄膜及体材料的双折射测量
4液体折射率的测量
5折射率随温度变化的测量分析
6折射率随深度变化的测量分析
1光波导器件芯片的制备
2激光晶体的制备
3聚合物材料的属性研究
4显示技术材料的测量
5光/磁存储材料的测量
6光学薄膜的制备
三、主要测量参数：
| 测量对象 | 具体内容 | |
| 折射率 | 折射率测量范围 | 1.0 to 2.45 |
| 折射率精度 | 0.001 | |
| 折射率分辨率 | ±0.0005 | |
| 厚度 | 厚度测量范围 | 0.4㎛-20㎛ |
| 厚度精确度 | ±0.5% | |
| 厚度分辨率 | ±0.01㎛ | |
| 体材料 （仅测折射率） | 折射率精度 | 0.0005 |
| 折射率分辨率 | ±0.0001 | |
| 厚薄膜 | 厚度测量范围 | 2㎛-150㎛ |
| 液体 （仅测折射率） | 折射率测量范围 | 1.0 to 2.4 |
| 折射率精度 | ± 0.0005 | |
| 热光系数 | 温度测试范围 | 室温－150℃ |
| 波导损耗测量 | 测量限度 | below 0.05dB/cm |
四、操作波长：
632.8nm,830nm, 1310nm,1550nm以及根据客户要求的其他可见光/近红外光。用户zui多可同时选用两个波长的激光源。
五、可测试的薄膜材料和称底材料的类型：
任何光滑的称底材料均可,并包括：硅、砷化镓、玻璃、石英、GGG、蓝宝石、锂酸铌等。
| 薄膜类型 | 称底类型 | |
| Silicon Nitride | Silicon | |
| Silicon Dioxide | Silicon Oxynitride | GaAs |
| Low-k films | Polymers | Quartz |
| Polyimides | ITO | Glass |
| Zinc Sulfide | Titanium Dioxide | Sapphire |
| Sapphire | Epi Garnet | GGG |
| Photoresists | Holographic Gels | Lithium Niobate |
七、一些材料厚度测量范围：
厚度测量范围表
| 薄膜类型和折射率 | 厚度和折射率一起测量 | 仅测量厚度 |
| 硅基上的二氧化硅（n=1.46） | 0.48-15mm | 0.20-0.48mm |
| 硅基上的光刻胶（n=1.63） | 0.42-15mm | 0.18-0.42mm |
| 二氧化硅上的光刻胶（n=1.63） | 0.70-15mm | 0.30-0.70mm |
| 硅基上的聚酰亚胺（n=1.72） | 0.38-15mm | 0.15-0.38mm |
| 二氧化硅上的聚酰亚胺（n=1.72） | 0.50-15mm | 0.16-0.50mm |
| 硅基上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.35-15mm | 0.14-0.35mm |
| 二氧化硅上的氮氧化硅（n=1.80） | 0.45-15mm | 0.13-0.45mm |
| 硅基上的氮化硅（n=2.0） | 0.32-15mm | 0.12-0.32mm |
| 二氧化硅上的氮化硅（n=2.0） | 0.30-15mm | 0.15-0.30mm |
