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TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为45纳米及以下分辨率的300毫米晶圆批量生产而设计
TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具,专为 45 纳米及以下分辨率的 300 毫米晶圆批量生产而设计。
XT:1900Gi采用蔡司星石1900i浸没镜头。这是现有的大型ArF镜头,在1.35NA时,它推动了水基ArF浸入式平版印刷达到极限。结合ASML的Ultra-k1产品组合,它提供了行业的可用k1值,它可以实现40nm及以下的半间距分辨率。
XT:1900Gi采用新的测量和曝光周期,它为浸入式光刻设定了一个新的基准,每小时生产131个晶片。
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主营产品:实验室分析检测仪器设备,以实验室整体建设为发展方向,从实验室布局设计出图、气路管路施工与装修、仪器设备供应、方法开发建立、人员培训以及运营维护,形成完整的专业实验室建设体系0532-67760023
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