行业产品

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苏州汶颢微流控技术股份有限公司


经营模式:生产厂家

商铺产品:199条

所在地区:江苏苏州市

联系人:朱先生 (销售工程师)

  • WH-CF-07“芯片-膜-芯片”三明治结构夹具

    详细摘要: 该夹具主要用于垂直进出样孔玻璃和PMMA芯片的固定与夹持,可拆卸重复使用避免了封合过程......

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • PDMS预聚物 RTV 615

    详细摘要: 美国迈图Momentive/日本东芝GE RTV 615A、B两种组分,比例是10:1,可分装。

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • SG-D02 双层力致粘性膜

    详细摘要: 可用于多层PMMA、玻璃以及其他塑料芯片的粘合,双面胶可以在常温下实现微流控芯片的封合,较热压法、等离子体表面处理、化学试剂处理等方法,避免了对芯片通道及预封样...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • 微流控芯片PMMA板

    详细摘要: PMMA,即聚甲基丙烯酸甲酯?优点 :?1、PMMA*是:它的光学性能;2、它透明,与其它透明材料不同的是,它能透过其它透明材料不能透过的光线,;3、光线也可以...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • 肖特高品质硼硅玻璃BF33

    详细摘要: 肖特BOROFLOATBF33-高品质的硼硅玻璃由肖特耶拿玻璃公司利用微浮法工艺和的技术生产而成。硼硅玻璃质地均匀,它具有镜面般的表面、*的表面平整度和良好的光...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • WH-CF-04 PDMS芯片可逆封合夹具

    详细摘要: PDMS芯片可逆封合夹具避免了PDMS芯片封合过程,用于PDMS芯片固定与夹持

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • PEEK接头

    详细摘要: 材料:PEEK;接头可直接粘在硅片、石英、玻璃以及聚合物等硬质芯片上使用,通过外径1/16"或者1.6mm的管路,比如PTFE管与流体驱动泵连接;也可以通过夹具...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • 高深宽比光敏玻璃

    详细摘要: 该光敏玻璃采用连熔法生产,具有*的光敏性、均质性。该玻璃一款技术光敏玻璃。该光敏玻璃经过紫外曝光以及热处理后会析出晶体,这些析晶区域在酸腐蚀之后可以形成高深宽比...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • ABS板材/PC/PTFE/PFA/PP/PS/尼龙板等

    详细摘要: 可提供板材:ABS板材/PC/PTFE/PFA/PP/PS/尼龙板等品名规格(厚*长*宽)mm品名规格(厚*长*宽)mm品名规格(厚*长*宽)mm品名规格(厚*...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • Mirochem SU-8光刻胶 3000系列

    详细摘要: 进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • Microchem SU 8光刻胶 2000系列 25-75

    详细摘要: 进口SU-8光刻胶系列,克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光量均匀一...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • WH-CF-06 C型硬质芯片夹具

    详细摘要: 硬质芯片C型夹具主要用玻璃、PMMA等硬质微流控芯片进出样,具有连接方便,避免了胶水粘结剂的使用;移位方便,便于观测;可重复使用;成本较低等特点。

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • WH-CF-01 标准芯片横款夹具

    详细摘要: WH-CF-01 标准芯片横款夹具提供了一种和标准尺寸的微流控芯片快速、可靠的连接方式,我公司生产的标准夹具,通过改变螺钉长度,能够配合一系列的标准芯片使用。标...

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • AZ P4620 光刻胶

    详细摘要: AZ P4620 正性光刻胶特点超厚膜,高对比度,高感光度正型光刻胶,适用于半导体制造及GMR磁头制造。

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • AZ 5214E 光刻胶

    详细摘要: AZ 5214E 正/负可改变型光刻胶具有高解像度图形反转正/负可改变型光刻胶,特别为lift-off工艺优化

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • AZ 50XT 光刻胶

    详细摘要: AZ 50XT 正性光刻胶,性能稳定,是应用于电镀工艺的超厚光刻胶。

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • AZ 9260 光刻胶

    详细摘要: AZ9260正性光刻胶,吸收系数小,是应用于厚胶刻蚀工艺的典型胶。

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • AZ 300MIF 显影液

    详细摘要: AZ 300MIF 显影液

    产品型号:所在地:更新时间:2021-04-13 在线留言

  • 匀胶机

    详细摘要: WH-SC-01匀胶机适用于半导体硅片,载玻片,晶片,基片,ITO导电玻的半导体工艺、制版、及表面涂覆等工艺,由汶颢股份自主研发,具有独立知识产权。该产品具有转...

    产品型号:WH-SC-01所在地:苏州市更新时间:2020-11-16 在线留言

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