详细摘要： 该设备用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜，亦可镀铁磁材料。图示镀膜机为双腔室，共用高真空系统...
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-11 在线留言北京中科科美科技股份有限公司
北京中科科美科技股份有限公司
详细摘要： 该设备用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜，亦可镀铁磁材料。图示镀膜机为双腔室，共用高真空系统...
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-11 在线留言
详细摘要： 该设备可沉积单金属、合金、及多种介质膜，多层膜；主要用于Φ150-Φ500轮毂型金属、非金属零件表面沉积各类功能膜（耐磨、防腐、导电膜、绝缘膜等...
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-10 在线留言
详细摘要： 磁控溅射镀膜机是应用泛的PVD沉积设备，可用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦...
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-10 在线留言
详细摘要： 该设备可沉积金属、合金、及多种介质膜，可进行反应溅射；用于硬质膜，装饰膜及其它功能膜的研究开发。
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-10 在线留言
详细摘要： 该设备在同一真空室内具有热蒸发和磁控溅射镀膜功能，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系沉积；可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜，亦可镀...
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-10 在线留言
详细摘要： 该设备为高真空多用途电阻蒸发镀膜机，四对电极可单独或同时蒸发不同的材料。设备为立式顶开盖结构，四对电极可单独或共蒸发，样品Φ300（max），样品台公自...
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-10 在线留言
详细摘要： 该设备用于通过磁控溅射法沉积金属薄膜、陶瓷膜、介质膜等，用户可以根据工艺的需要选择单靶独立工作、四靶轮流工作或四靶任意组合共溅等工作模式。该设备由主腔室和预备室...
产品型号：所在地：北京市更新时间：2025-01-10 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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