详细摘要： 本装置由公司和武汉工程大学联合研制，由微波源、真空系统、供气系统、微波传输及微波谐振腔等部分组成
产品型号：所在地：杭州市更新时间：2024-04-03 在线留言杭州大华仪器制造有限公司
杭州大华仪器制造有限公司
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详细摘要： 本装置由公司和武汉工程大学联合研制，由微波源、真空系统、供气系统、微波传输及微波谐振腔等部分组成
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详细摘要： 装置将13.560MHz射频源加至反应室外的电感线圈,用电感耦合方式激励气体,使其放电产生等离子体.这种方式具有放电效率高、无电极放电污染的特点,并可以获得纯净...
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详细摘要： 本系列实验装置是一款紧凑型等离子薄膜溅射仪，专门设计为在基底上镀上金属膜，如金，铂，铟和银等
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详细摘要： DH2005:DH2006:装置包括可拆卸的气体放电管、测量系统、真空系统、进气系统和水冷系统等部分组成
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详细摘要： 应用领域：本装置是磁控溅射镀膜系统，该系统兼容直流和射频溅射源，可溅射金属、非金属及化合物薄膜(如：ITO)等；广泛应用于科研院所、实验室制备单层或多层薄膜，以...
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详细摘要： 应用领域：TablePVD-15一款小型电阻蒸发镀膜仪，主要特点是设备体积小，结构简单紧凑易于操作，适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电...
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详细摘要： 应用领域：适合蒸镀对氧较敏感的金属膜（如Al、Au、Ag、Cu等），也可蒸镀各种氧化物材料
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详细摘要： 应用领域：该系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜,可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜等
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详细摘要： 应用领域：适用于实验室制备金属单质膜、半导体膜、钙钛矿太阳能电池、锂电池、有机膜等,用于镀制低熔点金属及合金材料薄膜，单层/多层/复合膜，例：铜、镁、铝、金、银...
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详细摘要： 应用领域：系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜,可镀金属、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其它化学反应膜等
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详细摘要： 应用领域：电子束蒸发可以蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发热效率高、束流密度大、蒸发速度快，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可以较准确地控制，可以广泛应用于制备高...
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详细摘要： 可采用直流（DC）溅射，溅射金属靶材制备金属膜，也可采用射频（RF）溅射，可溅射金属和氧化物靶材，制备金属或氧化物膜
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详细摘要： DH-450系列高真空镀膜机为箱式前开门电阻蒸发镀膜设备，采用系统框架，结构紧凑，外观更漂亮，使用更安全
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详细摘要： 真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，将真空蒸发系统工作室置于Glovebox无水、无氧、无尘的超纯环境中，PVD与Glovebox（手套箱...
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详细摘要： 为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）
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详细摘要： DH-GCVD系统兼容真空及常压两种主流的生长模式，可采用计算机自动控制，工作在常压气氛或真空条件，通过控制，可以在10-3Torr—760Torr之间的任意气...
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详细摘要： 本装置包含烧结系统、供气系统、真空系统，供气系统于一体，应用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米管生长、石墨烯生长以及复合碳材料的渗透等；也可用于气相传输法材料合...
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详细摘要： 超声雾化热解喷涂（UltrasonicSprayPyrolysis，USP）是一种重要的薄膜材料制备方法
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