光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统 PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面（Pattern ...

外形小巧、运营成本低、应用范围广光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统PR-PD3系列产品运转效率高，具有*稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继...

化学药液浓度计 CS-700系列的化学药液浓度计拥有更好的性能去监测混酸中的各个成分，包括高精*半导体制程中所需的各种化学药液。通过改进HORIBA的光谱分析测...

HF/HCl浓度计监测仪 HF-960H适用于测量高浓度的*和盐酸等HF-960H精确测量用于半导体制造或其它制程中所使用的*和盐酸。使用4-电极电导率测量转换...

碳质探头传感器（高浓度型）监测仪 HE-960HC适用于半导体和FPD生产制程中化学药液和废液的管理HE-960HC测量电导率可作为基于化学药液和废水管理的参数...

TMAH浓度计监测仪HE-960H-TM适用于显影液中TMAH的浓度管理HE-960TM可精确测量半导体和液晶生产中光阻显影药液制程中主要成份TMAH （四甲基...

SC-2浓度计监测仪 CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测清除...

BHF浓度计监测仪 CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜...

SPM监测仪 CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清...

SC-1浓度计监测仪 CS-131是半导体制造中清洗工艺的SC-1溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以常时间的监测微粒以及...

光纤式药液浓度计 CS-100F1系列通过利用光纤传播光信号，把样品单元直接组装到清洗装置配管上，实现实时在线测量。 同时，1台单一的浓度计zui多可以测量4种...

*浓度计监测仪CM-200A/210A为监测半导体制造工艺中*浓度而开发出来的高精度*浓度计。该设备通过采用电磁感应导电率计测量并实时显示*浓度。广泛适用于各个...

化学药液浓度计 CS-600F实现了更高标准的功能，旨在更好的适应生产制造，实现半导体湿法工艺对化学药液浓度更精准的管理。比如在多种不同应用中的在线监测高温化学...

电源PE-D20流量控制器常用功能已全部囊括进这台紧凑尺寸的设备中,流量输出警报，外部输出，开路集电极并可通过前端面板操作。

UVISEL自动超薄膜检测光谱型相调制椭圆偏振仪（SPME）是一款*的仪器，它采用光弹性晶体来调制偏振光，而不是传统椭偏技术中的机械偏光装置。

Auto SE薄膜检测仪是一种新型的按键式全自动薄膜测量分析工具，仅需简单的几个按键操作，即可完成全自动测量和分析。仅几秒钟即可完成样品分析，并提供完整的样品堆...

半导体工厂对高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及*的稳定性享有盛誉。光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统 PR-PD2...

在半导体/FPD工艺中，超纯水中的二氧化硅浓度会给产品精度以及原材料利用率带来很大影响。高灵敏度硅表超纯水管理用 高灵敏度硅表 SLIA-300完*够达到1μg...

碳质探头电阻率计 HE-960R-GC使用的是玻璃碳质传感器。玻璃碳质传感器不会被金属洗脱所污染，而且对于例如*和过氧化氢等湿法清洗药液具有很好的耐药性。其对单...

双通道电阻率计 HE-960RW-GC可连接两个传感器并可同时进行测量。一台变换器可同时进行高性能高精度地测量和输出2个不同位置的电阻率。