EMITECH K675X 三靶溅射镀膜仪 ——高分辨率，大样品镀铬或其它金属 K675X溅射镀膜系统装有磁电管靶可增加溅射效率，它使用低电压，可得到薄而精细的涂层。 在K675X中放置了三个靶面，可镀非常大直径的样品，加上旋转样品台，保证了均匀沉积。这种方式不需要特殊的靶面，而用标准标即可。 多靶系统在半导体晶圆工业尤为适用。它使用涡轮分子泵，前级为旋转机械泵。集成的仪器面板及即插即用的电子学zui大的“up-time"，以及用户友好设计，保证了多学科领域的应用。 溅射参数可预设，包括气体放气电磁阀。独立的真空泵系统由仪器自动控制。它可用金作为溅射靶材，在需要预清洗或去除氧化层时，也可选用其它靶材，如铬靶。 闸门作为标准配置，这样在维持真空时即可进行溅射清洁和溅射循环。 仪器特点 ● 配置三个靶面 ● 涡轮分子泵抽气系统 ● 全自动控制 ● Peltier冷却溅射头 ● 精细涂层（0.5nm Cr粒子） ● 可倾斜的特殊旋转台作为标准配置 ● 薄膜沉积（典型为5nm） ● 直径为300mm腔室 ● 可选双溅射头 仪器优点 ● 可对大样品进行镀膜，如：8英寸晶圆 ● 可溅射易氧化金属的精细颗粒，如：铬或铱 ● 易操作 ● 无需水冷却 ● 超高分辨率，可复制涂层 ● 适应各种样品 ● 重复膜厚沉积 ● 样品容易装载和卸载，包括8英寸晶圆 ● 不需要打开真空即可进行两种金属顺序涂层 技术规格 仪器尺寸：450mm W x 500mm D x 300mm H (总高 630mm) 工作腔室：硼硅酸盐玻璃 300mm Dia. x 20mm H 安全钟罩：聚碳酸酯 重量：42公斤 靶：54 mm 直径 x 0.3mm 厚x 3(铬作为标配靶材) 旋转样品台：可调的6 至 8 英寸晶圆尺寸,到靶距离60mm 真空范围：ATM-1x10-5 mbar 沉积电流范围：0-450mA 沉积速率：0-15nm/分 溅射定时：0-4 分钟 电源：230 伏 50Hz(包括泵zui大电流为8安培) 115 伏 60Hz(包括泵zui大电流为16安培) Services Argon - Nominal 10 psi； Nitrogen- Nominal 10 psi (Argon may be used as common gas) 真空泵：No 2. 泵complete with Vac. Hose & Oil Mist Filter 35L/Min 2m3/Hr
