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热丝化学气相沉积系统（HFCVD）-纳米晶金刚石薄膜制备

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更新时间：2022-06-02 09:07:11浏览次数：75次

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产品简介

热丝化学气相沉积系统（HFCVD）-纳米晶金刚石薄膜制备

详细介绍

关键词：纳米晶、工具涂层、金刚石涂层、热丝化学气相沉积系统、HFCVD、UNCD、NCD、掺杂

超纳米晶、金刚石刀具、MEMS、光学窗口、热沉片、cutting tools、微机电系统、B-doping

热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition System namely HFCVD)方法常常应用于工具表面的金刚石涂层、热沉金刚石片及自支撑超纳米晶金刚石薄膜的合成；其应用于机械工具、微机电系统（MEMS）,光学窗口等。

我们提供热丝化学气相沉积系统（HFCVD system），适合于：

1. 合成各种厚度和大面积的超纳米晶(ultra-nanocrystalline diamond coating/film/wafer；UNCD)、纳米晶（nanocrystalline diamond coating/film/wafer；NCD）、微米晶(microcrystalline diamond coating/film/wafer；MCD)金刚石；有效沉积面积可以达到0.5m²；

2. 可以在不同工具形状表面沉积，例如沉积3D diamond coatings 或者diamond dome；

3. 也可以用于掺杂研究（例如B-doping ），或多层膜结构研究及生产；

4. 应用于各种领域，例如cutting tools，metrology，thermal management等。

我们将根据您的需求，提供您应用的配置；购买我们的设备，我们也将提供工艺服务；如果您对我们的设备感兴趣，请联系我们！