上海续波光电技术有限公司
上海续波光电技术有限公司
关键词：单层膜、多层膜、半导体、光电子学、光子学、微机电系统、MEMS、微流体技术、磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜、共溅射连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型号：MP500S，产地：欧洲，应用：沉积AlN、Si3N4，TiN薄膜，抗腐蚀硬质膜，半导体膜，氧化物绝缘层等
关键词：单层膜、多层膜、半导体、光电子学、光子学、微机电系统、MEMS、微流体技术、
磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜、共溅射
连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶
型号：MP500S， 产地：欧洲 ， 应用：沉积AlN、Si3N4，TiN薄膜，抗腐蚀硬质膜，半导体膜，氧化物绝缘层等。
反应磁控溅射镀膜仪是微米纳米器件制备的设备，可用于制备普通金属薄膜，氮化铝(AlN)压电薄膜，Si3N4薄膜，TiN薄膜，抗腐蚀硬质膜，半导体薄膜，氧化物绝缘层等，适用于半导体，光电子学，光子学，微机电系统（MEMS）和微流体技术等领域。
MP500S 配置 如下：
腔体尺寸：内径500mm、高度400mm，电解抛光不锈钢腔体
真空系统：采用1000l/s分子泵（可选择低温泵）+30m3/h机械泵
配备薄膜真空计、潘宁/皮拉尼真空计
磁控阴极：3个3英寸磁控阴极，
与样品台的距离手动可调（8-13cm）
每个阴极配备一个 圆柱形挡板，防止 污染
每个阴极配备一个电气阀
每个阴极都可以是直流或射频模式（可选）
阴极电源：一个300W 13.56MHz射频电源（可以升级到2kW）
射频转换开关可用于溅射或衬底清洗
一个700W 直流电源
允许共溅射或顺序溅射（可达6种材料）
反应气路：2条气路（Ar和另外一条），每个气路配备MFC
Load Lock（可选）：采用Al合金腔体，手动样品传动臂。
采用5m3/h干泵抽气
配带皮拉尼真空计
控制系统：全自动控制，半自动和手动模式可用
若对我们的设备感兴趣，欢迎联系我们！
您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
仪表网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
