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小型单靶磁控溅射镀膜仪是我公司自主研发的一款高性价比磁控溅射镀膜设备，具有小型化、标准化的特点。磁控靶有1英寸、2英寸可以选择，客户可以根据所镀基板的大小自主选择；所配电源为150W直流电源，可用于金属溅射镀膜。镀膜仪配有通气接口，可以通入保护性气体，若客户需要通入混合气体，可以联系工作人员自行配置高精度质量流量计以满足实验需要。仪器标配*的涡轮分子泵组，极限真空可达1.0E-5Pa，同时另有其他类型的分子泵可供选购。
小型单靶磁控溅射镀膜仪适用范围：
该设备可用于制备单层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜等。该与同类设备相比，经过小型化设计，高度集成，体积小巧，可以放置于桌面上使用，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备。
技术参数：
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样品台 | 尺寸 | φ138mm | 控温精度 | ±1℃ |
加热温度 | *高500℃ | 转速 | 1-20rpm可调 |
磁控溅射头 | 数量 | 2” x1 （1”,2”可选） | 水冷机规格 | 10L/min流速的循环水冷机 |
冷却方式 | 水冷 | | |
真空腔体 | 腔体尺寸 | φ180mm × 215mm | 观察窗口 | 全向透明 |
腔体材料 | 高纯石英 | 开启方式 | 顶盖拆卸式 |
真空系统 | 产品型号 | CY-GZK103-A | 抽气接口 | KF40 |
分子泵 | CY-600 | 排气接口 | KF16 |
前极泵 | 旋片泵 | 真空测量 | 复合真空计 |
极限真空 | 1.0E-5Pa | 供电电源 | AC;220V 50/60Hz |
抽气速率 | 分子泵：600L/S 旋片泵：1.1L/S 综合抽气性能：20分钟真空度可达： 1.0E-3Pa |
电源配置 | 数量 | 直流电源 ×1 | *大输出功率 | 150W |
其他 | 供电电压 | AC220V,50Hz | 整机尺寸 | 500mm × 350mm × 400mm |
整机功率 | 1.7KW（真空泵组1.5KW+本机0.2KW） | 整机重量 | 30kg |
