详细摘要: PICOFLOW™系统的目的是减缓反应气体从反应腔中排出,从而增加其在反应腔中的停留时间。这允许前驱体有更长的时间扩散至样品表面,对于提高通孔、高度...
产品型号:PICOFLOW 扩散增强所在地:北京市更新时间:2018-05-15 在线留言北京正通远恒科技有限公司
详细摘要: PICOFLOW™系统的目的是减缓反应气体从反应腔中排出,从而增加其在反应腔中的停留时间。这允许前驱体有更长的时间扩散至样品表面,对于提高通孔、高度...
产品型号:PICOFLOW 扩散增强所在地:北京市更新时间:2018-05-15 在线留言详细摘要: 原子层沉积系统ALD R-200 AdvancedPICOSUN™ R系列ALD产品能够沉积高质量薄膜,即使衬底结构十分复杂,如多孔材料、高深宽比的...
产品型号:ALD R-200 Advanced所在地:北京市更新时间:2018-05-15 在线留言详细摘要: PICOSUN™ P系列量产ALD系统定义了高产量ALD的新时代。我们全自动化、真空集群与产线兼容的原子层沉积系统确保了zui大的产出效率,并且具有...
产品型号:ALD P-200 Pro所在地:北京市更新时间:2018-05-15 在线留言详细摘要: 原子层沉积系统ALD R-200 StandardPICOSUN™ R系列ALD产品能够沉积高质量薄膜,即使衬底结构十分复杂,如多孔材料、高深宽比的...
产品型号:ALD R-200 Standard所在地:北京市更新时间:2018-05-15 在线留言详细摘要: PLD薄膜沉积系统是一种用途广泛的薄膜沉积技术。脉冲激光快速蒸发靶材,生成与靶材组成相同的薄膜。PLD的*之处是能量源(脉冲激光)位于真空室的外面。这样,在材料...
产品型号:所在地:北京市更新时间:2018-05-15 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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