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光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统PR-PD3
外形小巧、运营成本低、应用范围广光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统PR-PD3系列产品运转效率高,具有*稳定性,受到众多半导体制造工厂的高度评价。继承了各个结构简单、*稳定运转的搬运系统,高通过量、可靠性高的光学系统。以及具有防误测功能等高性能设备并巧妙组合成一个整体的产品就是PR-PD3。和以往的机型(PR-PD2)相比,它的外形尺寸小了约1/2,追求低运营成本。检测灵敏度达到0.5μm,具有广泛通用性。诞生了可以用来满足光掩模(reticle/mask)上异物检测这一广泛需求的简便装置。