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光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统 PR-PD2-颗粒物监测仪 参考价：面议
光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统 PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面（Pattern ...
光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统PR-PD3-颗粒物监测仪 参考价：面议
外形小巧、运营成本低、应用范围广光掩模（Reticle/Mask）颗粒探测系统PR-PD3系列产品运转效率高，具有*稳定性，受到众多半导体制造工厂的高度评价。继...
化学药液浓度计 CS-700 参考价：面议
化学药液浓度计 CS-700系列的化学药液浓度计拥有更好的性能去监测混酸中的各个成分，包括高精*半导体制程中所需的各种化学药液。通过改进HORIBA的光谱分析测...
HF/HCl浓度计监测仪 HF-960H 参考价：面议
HF/HCl浓度计监测仪 HF-960H适用于测量高浓度的氢氟酸和盐酸等HF-960H精确测量用于半导体制造或其它制程中所使用的氢氟酸和盐酸。使用4-电极电导率...
碳质探头传感器（高浓度型）监测仪 HE-960HC-浓度计 参考价：面议
碳质探头传感器（高浓度型）监测仪 HE-960HC适用于半导体和FPD生产制程中化学药液和废液的管理HE-960HC测量电导率可作为基于化学药液和废水管理的参数...
TMAH浓度计监测仪HE-960H-TM 参考价：面议
TMAH浓度计监测仪HE-960H-TM适用于显影液中TMAH的浓度管理HE-960TM可精确测量半导体和液晶生产中光阻显影药液制程中主要成份TMAH （四甲基...
SC-2浓度计监测仪 CS-152 参考价：面议
SC-2浓度计监测仪 CS-152高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的SC-1溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测清除...
BHF浓度计监测仪 CS-137 参考价：面议
BHF浓度计监测仪 CS-137高精度化学药液浓度计专为半导体制造时清洗制程中所使用的BHF溶液而设计。实现了过去所没有的高速响应性和小巧化，可用于监测硅氧化膜...
SPM监测仪 CS-150-水质五参数监测仪 参考价：面议
SPM监测仪 CS-150是半导体制造中清洗工艺的SPM溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以实时检测金属离子以及有机物的清...
SC-1浓度计监测仪 CS-131 参考价：面议
SC-1浓度计监测仪 CS-131是半导体制造中清洗工艺的SC-1溶液用于高精度药液浓度的监测仪，实现了过去所没有的高速响应性和小巧化。可以常时间的监测微粒以及...
光纤式药液浓度计 CS-100F1系列 参考价：面议
光纤式药液浓度计 CS-100F1系列通过利用光纤传播光信号，把样品单元直接组装到清洗装置配管上，实现实时在线测量。 同时，1台单一的浓度计zui多可以测量4种...
氢氟酸浓度计监测仪CM-200A/210A 参考价：面议
氢氟酸浓度计监测仪CM-200A/210A为监测半导体制造工艺中氢氟酸浓度而开发出来的高精度氢氟酸浓度计。该设备通过采用电磁感应导电率计测量并实时显示氢氟酸浓度...
