HMDS真空烤箱 返回列表页

产品名称：HMDS真空烤箱

详细介绍

一、HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是至关重要的一个工艺环节，而涂胶工艺的好坏，直接影响到光刻的质量，所以涂胶也显得尤为必要，尤其在所刻线条比较细的时候，任何一个环节有一点纰漏，都可能导致光刻的失败。   在涂胶工艺中，所用到的光刻胶绝大多数是疏水的，而晶片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，如果在晶片表面直接涂胶的话，势必会造成光刻胶和晶片的粘合性较差，甚至造成局部的间隙或气泡，涂胶厚度和均匀性都受到了影响，从而影响了光刻效果和显影。为了解决这一问题，涂胶工艺中引入了一种化学制剂，即HMDS，它的英文全名叫Hexamethyldisilazane（HMDS），化学名称叫六甲基二硅氮烷，把它涂到硅片表面后，通过加温可反应生成以硅氧烷为主题的化合物，这实际上是一种表面活性剂，它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起到耦合的作用，再者，在显影的过程中，由于它增强了光刻胶与基底的粘附力，从而有效地抑制刻蚀液进入掩模与基底的侧向刻蚀。 起初，人们用液态的HMDS直接涂到晶片上，然后借着晶片的高速旋转在晶片表面形成一层HMDS膜。这样就阶段性的解决了基片和光刻胶之间的结合问题，但随着光刻线条的越来越细，胶的越来越薄，对粘附力提出了更高的要求，于是出了现在的HMDS专用烘箱。

二、HMDS预处理系统的优点：
   2.1预处理性能更好，由于是在经过数次的氮气置换再进行的HMDS处理，所以没有尘埃的干扰，再者，由于该系统是将"去水烘烤"和HMDS处理放在同一道工艺，同一个容器中进行，晶片在容器里先经过100℃-200℃的去水烘烤，再接着进行HMDS处理，不需要从容器里传出，而接触到大气，晶片吸收水分子的机会大大降低，所以有着更好的处理效果。等
   2.2处理更加均匀。由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液态涂布不可比拟的更好的均匀性。
   2.3效率高。液态涂布是单片操作，而本系统一次可以处理多达4盒的晶片。
   2.4更加节省药液。实践证明，用液态HMDS涂布单片所用的药液比用本系统处理4盒晶片所用药液还多；   

   2.5更加环保和安全，HMDS是有毒化学药品，人吸入后会出现反胃、呕吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整个过程是在密闭的环境下完成的，人接触不到药液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾气是直接由机械泵抽到尾气处理机，所以更加环保。

  3.8  整个系统采用优质材料制造，无发尘材料，适用100 级光刻间净化环境。钢化、钢化玻璃门观察工作室内物体，一目了然。箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。工作室采用不锈钢板（或拉丝板）制成，确保产品经久耐用。

四.HMDS真空烤箱一般工作流程：

首先确定烘箱工作温度，典型的程序为：打开真空泵抽真空，待腔内真空度达到某一高真空后，开始冲入氮气，达到某低真空后，再次进行抽真空冲入氮气，达到设定的冲氮次数后，开始保持一段时间，使硅片充分受热，减少硅片表面的水分，然后再次开始抽真空，冲入HMDS气体，在达到设定时间后停止充入，进入保持阶段，使硅片充分与HMDS反应。当保持时间达到设定值后，再次开始抽真空，冲入氮气，完成整个作业过程。

*技术细节变动之处，恕不另行通知，具体设备参数以咨询结果为准。

真萍科技作为专业的黄光区设备制造厂商，可根据客户工艺需求定制您需要的满意产品，有需求的客户。