多入射角激光椭偏仪
研发领域专用的多入射角激光椭偏仪，采用多项技术，仪器硬件和软件具有多项定制功能设计，适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合。 产品特点： 1.高精度、高稳定性 2.一体化集成设计 3.测量简单 4.快速、高精度样品方位对准 5.多角度测量 6.实时测量 7.丰富的材料库及物理模型 8.强大的数据分析和管理功能 应用领域： 可应用于纳米薄膜的几乎所有领域，如微电子、半导体、生命科学、电化学、显示技术、磁介质及金属处理等。可对纳米层构样品的薄膜厚度和折射率n及消光系数k进行快速、高精度、高准确度的测量，尤其适用于科研和工业产品环境中的新品研发及质量监控，可用于表征单层纳米薄膜、多层纳米层构模系，以及块状材料（基底）。
技术指标：
| 激光波长 | 632.8nm(He-Ne laser) |
| 膜层厚度精度 | 0.01nm(对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层 |
| 折射率精度 | 1x10-4 （对于Si 基底上110nm 的SiO2 膜层 |
| 光学结构 | PSCA |
| 激光光束直径 | <1mm |
| 入射角度 | 40°-90°可选，步进5° |
| 样品方位调整 | 三维平移调节；±6.5mm（X-Y-Z三轴） 二维俯仰调节：±4° 光学自准直系统对准 |
| 样品台尺寸 | Φ 170mm |
| 单次测量时间 | 0.2s |
| 推荐测量范围 | 0-6000nm |
| 外形尺寸（长x宽x高） | 887x332x552mm(入射角为90°时 |
| 仪器重量（净重） | 25kg |
