椭偏仪

摘要分光椭偏仪SEMILAB在线光谱椭偏仪SE-3000在线光谱椭偏仪SE-3000,在线光谱椭偏仪μSE-2500,分光椭偏仪SE-2100 (旋转补偿器型),分光椭偏仪SE-2000 (旋转补偿器型),分光椭偏仪SE-2000 (旋转补偿器型),激光椭圆仪LE-510...

摘要BX-G105教学激光椭偏仪是基于消光法（或称“零椭偏”）测量原理，针对纳米薄膜厚度测量领域推出的一款自动测量型教学仪器。BX-G105仪器适用于纳米薄膜的厚度测量，以及纳米薄膜的厚度和折射率同时测量。教学激光椭偏仪还可用于同时测量块状材料（如，金属、半导体、介质）的...

摘要BX-G104纳米光伏专用激光椭偏仪针对光伏太阳能电池推出的专用型多入射角激光椭偏仪。BX-G104用于测量绒面单晶硅或多晶硅太阳电池表面减反膜镀层的厚度以及在632.8nm下的折射率n。也可测量光滑平面材料上的单层或多层纳米薄膜的膜层厚度，以及在632.8nm下折射...

摘要BX-G103激光椭偏仪可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时测量纳米薄膜动态生长中膜层的厚度、折射率n和消光系数k。多入射角度设计...

摘要BX-G102紫外广义光谱椭偏仪BX-G102紫外广义光谱椭偏仪针对科研和工业环境推出的高精度快速摄谱型广义光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 广义光谱椭偏仪采用宽带超消色差补偿器、利用步进补偿器扫描测量采样模式、基于高灵敏度探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于...

摘要BX-G101高精度灵敏光谱椭偏仪针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度快速摄谱型光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 光谱椭偏仪基于高灵敏度光谱探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k...

摘要 Radiation 全光谱椭偏仪

摘要 SE500椭偏仪薄膜测量薄膜材料的厚度、NK性能250-1700nm产品简介椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器，主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质

摘要 SE300椭偏仪400nm到1000nm测量薄膜材料厚度产品简介SE300椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器，主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质

摘要 SE200BA-M300椭偏仪测量250nm到1000nm薄膜材料厚度分析设备产品简介椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器，主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质

摘要全自动光谱型椭偏仪仪器介绍： UVISEL2是一款革新的全自动光谱型椭偏仪。继承并发展了经典机型UVISEL的高准确性、高灵敏度和高稳定性等技术特点的同时，配备革新的可视系统，多达8个尺寸微光斑选项，最小达3585m2，适用于所有薄膜材料研究领域。是目前市场...

摘要 用于椭偏仪或其它光谱仪等设备。

摘要 太阳能电池专用椭偏仪

摘要 多角度激光椭偏仪(PH-LE型)专门针对晶硅太阳能电池绒面上的减反膜测量，能够测量薄膜厚度及其光学常数，使用632.8nm波长氦氖激光器，具有的精确度和准确度

摘要 光谱椭偏仪(PH-SE型)针对太阳能电池应用，可测量多晶硅/单晶硅绒面表面单层（二层或多层）减反射膜、和玻璃/有机基底上的薄膜太阳能电池

摘要 简要描述：EMPro是针对研发和质量控制领域推出的型多入射角激光椭偏仪。

摘要 简要描述：穆勒矩阵椭偏仪

摘要 简要描述：SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析，适用于薄膜材料的快速测量表征。

摘要 简要描述：SE-L 是一款全自动高精度光谱椭偏仪，集众多科技技术，采用行业前沿创新技术，配置全自动测量模块。

摘要 简要描述：SE-Mapping 光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪。

摘要 简要描述：SE-PV 是一款光伏行业领域专用型光谱椭偏仪，针对光伏行业绒面单晶硅或多晶硅太阳能电池表面减反膜测量定制开发，快速实现薄膜物性表征分析。

摘要 简要描述：SE-VE 是一款、快速测量光谱椭偏仪，紧凑集成设计，使用简便，可一键快速测量表征各式光学薄膜膜厚以及光学常数等信息。

摘要 UVISEL 研究级经典型椭偏仪

摘要产品详情简介仪器简介：UVISEL2是一款革新的全自动光谱型椭偏仪。继承并发展了经典机型UVISEL的高准确性、高灵敏度和高稳定性等技术特点的同时，配备革新的可视系统，多达8个尺寸微光斑选项，最小达3585m2，适用于所有薄膜材料研究领域。是目前市场上无二的机型。 详...

摘要 ME-L穆勒矩阵椭偏仪一、产品介绍：1、超宽的光谱范围：采用氘灯和卤素灯复合光源

摘要 Gaertner Stokes Waferskan椭偏仪LSE-WS，Gaertner stokes waferskan™ ellipsometer LSE-WS

摘要 Gaertner stokes 微点椭偏仪LSE-MS，Gaertner stokes microspot ellipsometer LSE-MS

摘要 多入射角激光椭偏仪研发领域专用的多入射角激光椭偏仪，采用多项技术，仪器硬件和软件具有多项定制功能设计，适用于光面或绒面纳米薄膜测量、块状固体参数测量、快速变化的纳米薄膜实时测量等不同的应用场合

摘要 椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量仪器

摘要 通过椭偏参数、透射/反射等参数测量，实现各种单层到多层的各向同性/各向异性薄膜膜厚、光学常数快速表征

摘要 ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪，凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入，其采用行业前沿的创新技术，包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。

摘要 图片简介SE500椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器，主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质

摘要 图片简介SE300椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器，主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质

摘要 图片简介椭偏仪——SE200BA-M300椭偏仪是一种利用光的偏振态变化来进行薄膜性质表征的仪器，主要用来测量薄膜材料的厚度、NK参数等性质

摘要椭偏仪测量介电常数GBT 1409-2006测量电气绝缘材料在工频、音频、高频（包括米波波长在内）下电容率和介质损耗因数的推荐方法GB/T1693-2007 硫化橡胶 介电常数和介质损耗角正切值的测定方法 ASTM D150/IEC 60250固体电绝缘材料的(恒久电...

摘要静态介电常数椭偏仪GBT 1409-2006测量电气绝缘材料在工频、音频、高频（包括米波波长在内）下电容率和介质损耗因数的推荐方法GB/T1693-2007 硫化橡胶 介电常数和介质损耗角正切值的测定方法 ASTM D150/IEC 60250固体电绝缘材料的(恒久电...

摘要 本设备基于双旋转补偿器调制技术一次性获取Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱，可实现基底上单层到多层薄膜的膜厚、光学常数的快速分析表征。

摘要 SE-VE椭偏仪是基于单旋转补偿器调制技术一次性获取Psi/Delta、N/C/S、反射率等光谱，可实现基底上单层到多层薄膜的膜厚、光学常数的快速分析表征。

摘要椭偏仪折射率介电常数GBT 1409-2006测量电气绝缘材料在工频、音频、高频（包括米波波长在内）下电容率和介质损耗因数的推荐方法GB/T1693-2007 硫化橡胶 介电常数和介质损耗角正切值的测定方法 ASTM D150/IEC 60250固体电绝缘材料的(恒久...

摘要椭偏仪测介电常数GBT 1409-2006测量电气绝缘材料在工频、音频、高频（包括米波波长在内）下电容率和介质损耗因数的推荐方法GB/T1693-2007 硫化橡胶 介电常数和介质损耗角正切值的测定方法 ASTM D150/IEC 60250固体电绝缘材料的(恒久电介...

摘要椭偏仪介电常数测试机满足标准：GB/T1409-2006 测量电气绝缘材料在工频、音频、高频下电容率和介质损耗因数的推荐方法GB/T 5654-2007 液体绝缘材料 相对电容率、介质损耗因数和直流电阻率的测量GB/T 21216-2007 绝缘液体 测量电导和电容确...

摘要 采用双旋转补偿技术，可测量穆勒矩阵的全部16个单元，RC2是J.A.Woollam公司的的光谱椭偏仪产品。

摘要 BX-G102系列针对科研和工业环境推出的高精度快速摄谱型广义光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 广义光谱椭偏仪采用宽带超消色差补偿器、利用步进补偿器扫描测量采样模式、基于高灵敏度探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量纳米薄膜样品、块状材料和各向异性材料。

摘要BX-G101系列针对科研和工业环境中薄膜测量推出的高精度快速摄谱型光谱椭偏仪，波长范围覆盖紫外、可见到红外。 光谱椭偏仪基于高灵敏度光谱探测单元和光谱椭偏仪分析软件，用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数（如，厚度）和物理参数（如，折射率n、消光系数k，或介电函数ε1...

摘要BX-G103系列是针对新颖研发和质量控制领域推出的型多入射角激光椭偏仪。 BX-G103系列可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k；也可用于同时测量块状材料的折射率n和消光系数k；亦可用于实时...