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ME-L 穆勒矩阵椭偏仪

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更新时间:2020-01-18 09:10:00浏览次数:3110次

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产地 国产 加工定制
ME-L 穆勒矩阵椭偏仪
概述

ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。

概述ME-L 穆勒矩阵椭偏仪

ME-L 是一款科研级全自动高精度穆勒矩阵型椭偏仪,凝聚了颐光科研团队在椭偏技术多年的投入,其采用行业前沿的创新技术,包括消色差补偿器、双旋转补偿器同步控制、穆勒矩阵数据分析等。可应用于各种各向同性/异性薄膜材料膜厚、光学纳米光栅常数以及一维/二维纳米光栅材料结构的表征分析。

ME-L 穆勒矩阵椭偏仪

双旋转补偿器(DRC)配置一次测量全部穆勒矩阵16个元素;
配置自动变角器、五维样件控制平台等优质硬件模块;
软件交互式界面配合辅助向导式设计,易上手、操作便捷;
丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。

 

 

产品特点

 

采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm);

波段.png

可实现穆勒矩阵数据处理,测量信息量更大,测量速度快、数据更加精准;

1.png

基于双旋转补偿器配置,可一次测量获得全部穆勒矩阵的16个元素,相对传统光谱椭偏仪可获取更加丰富全面的测量信息;
穆勒.png

颐光技术确保在宽光谱范围内,提供优质稳定的各波段光谱;
2.png

数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料;

库.png
集成对纳米光栅的分析,可同时测量分析纳米结构周期、线宽、线高、侧壁角、粗糙度等几何形貌信息;

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