自动光谱椭偏仪SE-L型是一款科研级全自动高精度光谱椭偏仪，集众多颐光

科技技术于一体，采用行业前沿创新技术，配置全自动测量

模块。通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量，快速实现光

学参数薄膜和纳米结构的表征分析。

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• 纳米测量光学椭偏测量解决方案

• 紧凑集成设计，使用简便，一键快速测量

• 向导交互式人机界面，便捷的软件操作体验

• 丰富的材料数据库和算法模型库，强大的数据分析能力

    自动光谱椭偏仪SE-L型产品特点： 

• 采用氘灯和卤素灯复合光源，光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-1700nm)；

  

•  高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置，实现Psi/Delta光谱数据高速采集；

  

• 配置全自动测量技术 ， 基于行业电机控制技术，全自动调整测量角度，高精度控制样件台，实现样件快速自动对准找焦；

  

•  数百种材料数据库、多种算法模型库，涵盖了目前绝大部分的光电材料；

  

•  强大软件应用分析能力，针对半导体、集成电路、新型平板显示、薄膜光伏等领域中材料的厚度、光学常数、结构信息等数据通过建模拟合进行全面的快速分析；

     自动光谱椭偏仪SE-L型产品应用：

    SE-L  型光谱椭偏仪广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,  实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析：

1、  半导体：半导体薄膜结构（如：介电薄膜、金属薄膜、高分子、光刻胶、硅、PZT膜，激光二极管GaN和AlGaN、透明的电子器件等），半导体周期性纳米结构（如纳米光栅，套刻误差，T型相变存储器等）；

2、  平板显示：TFT、OLED、等离子显示板、柔性显示板等；

3、  光伏太阳能：光伏材料（如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等）反射率，消光系数测量，膜层厚度及表面粗糙度测量等；

4、  生物和化学工程：有机薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子层、薄膜吸附、表面改性处理等。

5、  块状材料分析：固体（金属、半导体、介质等）或液体（纯净物或混合物）的折射率n和消光系数k表征，玻璃新品研发和质量控制等。

基本功能

全自动化/高精度，通过椭偏参数、透射/反射率等参数的快速测量

光谱范围

3800nm-1000nm（支持紫外扩展至200nm，红外扩展至1700nm）

测量时间

1-5s

入射角范围

45-90°

微光斑尺寸

200μm

重复性测量精度，100nm SiO₂硅片（30次测量，1σ）

0.01nm

支持样件zui大尺寸

200mm*200mm

样品台调节

高度：0-15mm（自动）

俯仰：±3°

XY：±12.5mm

Rz：0-360°（粗调）

±3°（精调，分辨率：0.05°）

软件

多语言界面切换

多达数千种的光学材料常数数据库，并支持用户自定义光学材料库

提供多层各向同性光学薄膜建模仿真与分析功能

提供多层各向异性光学薄膜建模仿真与分析功能

提供多层周期性光栅结构建模仿真与分析功能