昆山国华等离子表面改性设备除胶渣
经过30年的发展，等离子体所在高温等离子体物理实验及核聚变工程技术研究方面*等离子体物理研究所处于*水平，形成了广泛的交流与合作，与欧、美、日、俄、澳等近三十个国家和地区建立了稳定合作交流关系，开展多个合作项目，成为“第三世界*开放实验室“和“世界实验室聚变研究中心“，是受控热核聚变计划ITER中国工作组的重要单位之一。
电介质等离子体刻蚀设备一般使用电容耦合等离子体平行板反应器。在平行电极反应器中，反应离子刻蚀腔体采用了阴极面积小，阳极面积大的不对称设计，被刻蚀物是被置于面积较小的电极上。在射频电源所产生的热运动作用下带负电的自由电子因质量小、运动速度快，很快到达阴极；而正离子则由于质量大，速度慢不能在相同的时间内到达阴极, 从而使阴极附近形成了带负电的鞘层。正离子在鞘层的加速下，垂直轰击硅片表面，加快表面的化学反应及反应生成物的脱离，导致很高的刻蚀速率。离子轰击也使各向异性刻蚀得以实现等离子体去胶的原理和等离子体刻蚀的原理是*的。不同的是反应气体的种类和等离子体的激发方式。
主要应用
当光打在金属表面时，二维光或是等离子体就会被激发。等离子体可以被看作是光子和电子的连接。
可以建立一个混合原则，由光转变成的等离子体在金属表面传播时(该等离子体的波长比原始光波的波长小的多);等离子体能被二维光学仪器(镜子、波导、透镜等)处理，等离子体能再次转变成光或者电信号。
等离子体传感器和癌症*:NaomiHalas描述了等离子体怎样激发小金属层表面的，米粒形状的粒子能量很大，做光谱学试验的光是微分子数量级。等离子体在米粒状粒子弯曲顶端处等离子体电场比用来激发等离子体的电场强很多，并且它在很大程度上改进了光谱的速率和性。换一种说法，纳米数量级的等离子体不仅可以用来鉴定，还可以用来杀死癌细胞。
等离子体显微镜:IgorSmolyaninov报道称他和他的同事能够拍下来空间分辨率在60nm的物体(如果是实用材料，分辨率能达到30nm)，而用激光激发只能达到515nm。换句话说，用这种分辨率制造的显微镜会比平常使用的衍射方法好的多;而且，这更是远场显微镜――光源不用放在少于光波长的范围内。巨大光极化和光传输:GennadyShvets报道当表面的声子被光激发来制造超棱镜(用平板材料透镜化)显微镜是红外线光显微镜波长的二十分之一。他和他的同事能拍下样品表面下的特征，他们称为"巨大的光传输"，照射到表面的光比一般光的波长小的多。
光频率的未来等离子体电路:NaderEngheta支持等离子体激发的纳米粒子能够被设计成纳米数量级的电容，电阻，和感应器(电路中的各种元素)。
电路能够接收广播(1010Hz)或者是微波(1012Hz)的频率，而该电路却能达到光频率(1015Hz)。这就能实现小型化以及用纳米天线探测光信号的过程，纳米波导，纳米传感器，并且还有可能实现纳米计算机，纳米存储，纳米信号和光分子接口。
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等离子刻蚀机去胶法，去胶气体为氧气。其工作原理是将硅片置于真空反应系统中，通入少量氧气，加1500 V高压，由高频信号发生器产生高频信号，使石英管内形成强的电磁场，使氧气电离，形成氧离子、活化的氧原子、氧分子和电子等混合物的等离子体的辉光柱。活化氧（活泼的原子态氧）可以迅速地将聚酰亚胺膜氧化成为可挥发性气体，被机械泵抽走，这样就把硅片上的聚酰亚胺膜去除了。等离子去胶的优点是去胶操作简单、去胶效率高、表面干净光洁、无划痕、成本低、环保
