PHI quantera SXM扫描X射线光电子能谱仪-X光电子能谱仪

PHI quantera SXM扫描X射线光电子能谱仪世界扫描式X射线源根据X射线扫描样品表面所得的二次电子像(ScanningX-ray Image,斑束直径为9-200微米)能正确而迅速地确定分析位置  分析灵敏度高(采用32通道检测器)  与普通的入射透镜视场限制式X射线光电子谱仪相比微区分析灵敏度约提高10-20倍(<30微米,和 本公司的入射透镜视场限制式X射线光电子谱仪相比)  利用低能电子束和低能离子束同时照射样品使得绝缘材料的分析变得非常方便(因为对所有绝缘材料使用近乎相同的中和条件并且该中和条件在测定时会自动开启) 使用新型离子枪能快速地进行深度剖面分析并可获 得高深度分辨率  

PHI quantera SXM扫描X射线光电子能谱仪离子化：能量以这样的方式从初级离子被转移到样品表面，在撞击的地区附近，导致有相当表面的范围分裂，造成释放低质量的原子和分子种类。在撞击地区，能量进一步传到基质导致释放出更高质量的分子种类。 静态：有一个初级离子轰击的状态，被称为“静态”SIMS，这种状态下每次撞击在样品表面的离子数量很低，使每个连续的初级离子能撞击 到未经撞击的表面。这种静态SIMS不会突然结束，但普遍接受的只限于〜1012至1013初级离子/cm2 。时间飞行质谱遵循静态SIMS的规则。  TRIFT分析器：TRIFT分析器不断重新聚焦二次离子在光谱仪。该分析仪具有超大的角和能源验收，通过采用具有优良离子传输能力的三重重点半球形静电分析器可达到高空间分辨率和质量分辨率。