等离子体增强化学气相沉积系统-仪表网

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极限真空：1E-7torr 产品描述：等离子体增强化学气相沉积系统 ......

等离子体增强化学气相沉积系统产品详情

等离子体增强化学气相沉积系统

PECVD：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上可达8路MFC和多样化的气体选择；
均匀性：≤±3%；
预抽真空室和自动晶片装卸门；
全自动控制；

应用领域：
等离子诱导表面改性；
等离子清洗；
等离子聚合；
SiO2, Si3N4, DLC及其它薄膜；
碳纳米管(CNT)的选择性生长。

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