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  • 牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统 原子层沉积系统

牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统 原子层沉积系统

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌
  • 所在地嘉兴市
  • 更新时间2022-10-01
  • 厂商性质生产厂家
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量185
  • 人气值1544
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上海绘吉电子科技有限公司主要代理欧、美、日及国内*科学仪器、工业质检仪器及相关消耗品,专业涉及高校、新能源、钢铁行业、科研研究及轻工化工、在国内特别是华东地区具有广泛的客户基础和良好的商业信誉。经过几年的发展,绘吉公司已经在同行业中确立了多方面的好的地位,无论在公司规模、人员素质、经营品种、销售能力和售后服务等各方面获得了同行及用户的广泛认可。 上海绘吉电子科技有限公司从事分析类仪器(荧光光谱仪,质谱仪,粒度仪,真空系列等分析类设备),电池材料制备设备,实验室仪器,理化分析类仪器,微生物仪器,生理仪器及实验室耗材。。
上海绘吉电子科技有限公司从事分析类仪器(荧光光谱仪,质谱仪,粒度仪等分析类设备),德国普发真空设备,电池材料制备设备,实验室仪器,理化分析类仪器,微生物仪器,生理仪器及实验室耗材。
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上海绘吉电子科技有限公司成功和进口公司合作。德国普发真空设备,德国布鲁克仪器有限公司,*分析仪器有限公司,美国PE公司,美国热电仪器有限公司,天美科技有限公司,岛津,莱卡仪器,日本horriba,梅特勒等进口公司

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产地国产 加工定制
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统
该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统 原子层沉积系统 产品详情

牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统

   该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。

 
  具有大的工艺灵活性,适用于化合物半导体,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术, PlasmalabSystem100可以有很多的配置,详情如下。


主要特点牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统

  • 可处理8 "晶片,也具有小批量(6 × 2")预制和试生产的能力

  • 选择单晶片/批处理或盒式进样,采用真空进样室。 该PlasmalabSystem100可以集成到一个集群系统中,采用*机械手传送晶片,生产工艺中采用全片盒到片盒晶片传送. 采用一系列的电极进行衬底温度控制,其温度范围为-150 ° C至700° C

  • 用于终端检测的激光干涉和/或光发射谱可安装在Plasmalab System100以加强刻蚀控制

  • 选的6 或12路气箱为工艺流程和工艺气体提供了选择上的灵活性,并可以放置在远端,远离主要工艺设备


工艺
一些使用Plasmalab System100等离子刻蚀与沉积设备的例子:

  • 低温硅刻蚀,深硅刻蚀和SOI工艺,应用于MEMS ,微流体技术和光子技术

  • 用于激光器端面的III - V族刻蚀工艺,通过刻蚀孔、光子晶体和许多其他应用,材料范围广泛(InP, InSb, InGaAsP, GaAs, AlGaAs, GaN, AlGaN,等)

  •  GaN、AlGaN等的预生产和研发工艺,比如HBLED和其它功率器件的刻蚀

  • 高品质,高速率SiO2沉积,应用于光子器件

  • 金属(Nb, W)刻蚀

 

    的单晶片刻蚀技术-PlasmaPro100 Sapphire。牛津仪器致力于固态照明的技术革新,凭着在HBLED相关材料方面经验丰富,设备使用成本控制和符合产量要求的同时,我们的新技术还可以大化地提高客户的产品良率。
    针对HBLED苟刻的化学环境要求,PlasmaPro100 Sapphire具有特殊的设计,可以在直径为200mm的晶片上进行快速和均匀的刻蚀。牛津仪器一直努力地为客户提供创新的、有效控制成本和可靠的工艺方案。这个设计的设备满足了所有的要求。
   主要特点和优势包括:具有的静电吸盘技术,能固定蓝宝石,和生长蓝宝石或硅上的氮化镓;高功率的ICP能生产出高密度的等离子体;磁隔离区可提高离子控制和均匀性;高电导泵水系统可以在低压下大化地运送气体。

关键词:机械手
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