1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制，实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作，适用于研究开发及少量生产
2.蒸发材料：金属，ITO，二氧化硅等材料
产品特性：
• 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜
• 镀膜精度高,可达10E-10m
• 蒸发镀膜的纯度高,附着力强
• 镀膜的均匀性好,重复性优异
• 配置离子源进行表面处理
• 配置热阻蒸发,省材料
• 上位通信,材料扫描功能
• C2～12inch,不定型片,方片蒸发
产品应用：
• 功率器件
• LED
• 光通信/传感器
• LD
• 高校及研究所等
产品特性：
• 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜
• 镀膜精度高,可达10E-10m
• 蒸发镀膜的纯度高,附着力强
• 镀膜的均匀性好,重复性优异
• 配置离子源进行表面处理
• 配置热阻蒸发,省材料
• 上位通信,材料扫描功能
• C2～12inch,不定型片,方片蒸发
产品应用：
• 功率器件
• LED
• 光通信/传感器
• LD
• 高校及研究所等
产品特性：
• 金属,合金,非金属,化合物等材料的高品质蒸发镀膜
• 镀膜精度高,可达10E-10m
• 蒸发镀膜的纯度高,附着力强
• 镀膜的均匀性好,重复性优异
• 配置离子源进行表面处理
• 配置热阻蒸发,省材料
• 上位通信,材料扫描功能
• C2～12inch,不定型片,方片蒸发
产品应用：
• 功率器件
• LED
• 光通信/传感器
• LD
• 高校及研究所等
