原子层沉积系统是一种用于化学、材料科学领域的工艺试验仪器。技术指标反应腔腔壁加热温度应不低于300℃;反应腔能够适应在8英寸及以下尺寸平面基底上沉积薄膜材料且对基底形状没有严格要求,基底加热温度可达...
查看详情原子层沉积系统是一种用于化学、材料科学领域的工艺试验仪器。技术指标反应腔腔壁加热温度应不低于300℃;反应腔能够适应在8英寸及以下尺寸平面基底上沉积薄膜材料且对基底形状没有严格要求,基底加热温度可达...
查看详情摘要“世界上没有一个ALD公司能拥有像Picosun那样的资质。” Picosun的研究历史和背景始于原子层沉积领域研究起步时期。ALD原子层沉积系统是由Dr. Tuomo Suntola 于1974年在芬兰发明的,他现在是Picosun董事会成员之一。Picosun的创...
在线询价摘要PICOSUN™ P-300 系统拥有的热壁、独立的前驱体管路和特殊的载气设计,确保可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和的电学和光学性能的高质量 ALD 薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷,大限度减少系统的维护停工期和使用成本。拥有技术的 Pi...
在线询价摘要 PICOSUN® R-200 标准 ALD 系统适用于数十种应用的研发,例如 IC 组件、MEMS 设备、显示器、LED、激光器和 3D 对象,例如透镜、光学器件、珠宝、硬币和医疗植入物。
在线询价摘要 Picosun R-200 系列原子层沉积系统是一款多功能的原子层沉积平台,是用于研发的理想选择,适用于 IC 器件、MEMS 器件、显示器、LED、激光器以及透镜、光学部件、珠宝、硬币、医疗植入物等 3D 部件的研发。
在线询价摘要 详细内容ALD-02原子层沉积系统ALD产品特点产品参数产品介绍TheAdvancedALDsystemisaviscousflow-typereactorforultrathinfilmdeposition
在线询价摘要 科研型原子层沉积系统ALD系芬兰picosun公司R-200standard原子层沉积技术,具有的热壁设计和单独的入口,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料
在线询价摘要 产品概要: 美国埃米Angstrom Dep III原子层沉积系统,包括:传统的热原子层沉积系统(TALD)、等离子增强原子层沉积系统(PEALD)、粉末样品的原子层沉积系统(Power-ALD)。
在线询价摘要 原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。
在线询价摘要原子层沉积系统SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及*的阶梯覆盖性能,使用户能够控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级颗粒。该设备是小型且经济实惠的型号,与主机和控制电源相结合,追...
在线询价摘要PICOSUN拥有30多年在芬兰ALD反应器制造而得到的专业技术。Tuomo Suntola博士,于1974年发明了ALD技术,是PICOSUN董事会的成员。我们的技术官SVEN LINDFORS从1975年开始连续的设计ALD系统。综合起来讲,PICOSUN拥有了2...
在线询价摘要NLD-3500(A)全自动原子层沉积系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以在ALD原子层沉积中有...
在线询价摘要1.ALD (传统的热原子层沉积);2.PEALD (等离子增强原子层沉积);3.Powder ALD (粉末样品的原子层沉积);仪器简介:原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD),也称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy...
在线询价摘要 原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。
在线询价摘要NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统标准配置包含1路惰性气体、3路活性气体管路和4个MFC.带有*气体分布系统的平面中空阴极等离子源使得系统可以满足广大范围的要求,无论是等离子强度、均匀度,还是要分别激活某些活性组份,这样系统可以覆盖zui广的可能性来...
在线询价摘要 全自动ICPECVD等离子体化学气相沉积系统该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的优势.样品台可以通过RF或脉冲DC产生偏压。并可以支持加热和循环冷却水的冷却.
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