NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀-仪表网

那诺-马斯特中国有限公司成立于2015年4月，是服务大中华区(包含中国大陆，香港，中国台湾和澳门)的客户，同时我们在中国大陆设有专门的服务办公室，提供销售和售后技术服务。

那诺-马斯特中国的主要产品包括薄膜沉积设备、薄膜生长设备、干法刻蚀设备、兆声湿法清洗设备及太空模拟测试设备等等。Nano-Master的前身是那诺-马斯特美国，该公司是法国那诺-马斯*限公司于1992年在美国所创立的全资子公司，是一家国际前列的缺陷检测和高速镀层测量的计量公司。自从1993年开始Birol Kuyel博士全面接管那诺-马斯特美国并正式更名。

自2001年Nano-Master开始设计开发薄膜应用方面的设备，正式面世的系统依次是磁控溅射、PECVD、晶圆/掩模版清洗系统…。应用领域涵盖了半导体、MEMS、光电子学、纳米技术和光伏等。我们的设备包含用于二氧化硅、氮化硅、类金刚石和CNT沉积的PECVD，用于InGaN、AlGaN生长的PA-MOCVD，溅射镀膜(反应溅、共溅、组合溅)，热蒸发和电子束蒸发，离子束刻蚀和反应离子刻蚀，原子层沉积，兆声清洗以及光刻胶剥离等。三十年左右的时间内Nano-Master已经发展成为国际薄膜设备的供应商，已售出的几百套设备分布于20多个不同国家的大学、研发中心和国家重点实验室。

我们聘用技术熟练并具有良好教育背景的设计和制造工程师、应用工程师、服务工程师、技术支持人员，使得公司拥有专业的服务团队。作为薄膜工艺的设备提供商，我们的目标是提供高品质的服务并始终维持超高水平的集成度。

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NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。

NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品详情

NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：如铜和金等金属不含挥发性化合物，这些金属的刻蚀无法在RIE系统中完成。然而通过加速的Ar离子进行物理刻蚀则是可能的。通常情况下，样品表面采用厚胶作为掩模层，刻蚀期间富有能量的离子流会使得基片和光刻胶过热。除非可以找到有效的方式消除热量，否则光刻胶将变得非常难以去除。

NANO-MASTER技术已经证明了可以把基片温度控制在50° C以内的同时，旋转晶圆片以达到想要的均匀度。

NIE-4000（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：

14.5”不锈钢立体离子束腔体
16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板
离子束中和器
氩气MFC
6”水冷样品台
晶片旋转速度3、10RPM，真空步进电机
步进电机控制晶圆片倾斜
自动上下载晶圆片
典型刻蚀速率：铜200 ?/min, 硅：500 ?/min
6”范围内，刻蚀均匀度+/-3%
极限真空5x10-7Torr，20分钟内可达到10-6Torr级别（配套500 l/s涡轮分子泵）
配套1000 l/s涡轮分子泵，极限真空可达8x10-8Torr
磁控溅射Si3N4以保护被刻蚀金属表面被氧化
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
菜单驱动，4级密码访问保护
完整的安全联锁

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