简介
日立离子研磨装置IM4000 II是一款集断面加工和平面研磨功能于一体的混合仪器，适用于高分辨成像及样品表面特性分析。该设备通过混合模式提供两种研磨配置，采用新型离子枪设计提高了加工效率，与前代产品相比，横截面研磨时间大幅减少，同时其可拆卸样品台设计方便了样品设置和研磨边缘定义。
日立离子研磨装置IM4000 II 具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器！
日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的混合模式带有两种研磨配置：
断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。
平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的高通量能提高加工效率：
与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。
（参考加工速率：硅元素为300微米/小时 — 加工时间减少了66%。日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000 ）的可拆卸样品台装置：
为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。
特点 |
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