德国SENTECH公司 ICP等离子/ RIE反应离子刻蚀机---上海/苏州/无锡/南京/天津/北京/武汉/西安/杭州/济南/广州
SENTECH仪器（德国）有限公司研发、制造和销售*的薄膜测量仪器（光谱椭偏仪、激光椭偏仪、反射膜厚仪）、光伏测量仪器（在线和离线测量工具）和等离子工艺设备（等离子刻蚀机、等离子沉积系统、原子层沉积系统、用户定制多腔系统）。
仪器广泛应用于微电子、光电、纳米技术、LED、平板显示、材料、有机电子、光伏、玻璃镀膜、生物学、生命科学、等研发领域。
NOVTEC寓意“科技创新”，即诺威特测控科技有限公司，在德国、日本设有代表处，多年来致力于将的高科技产品带给中国及亚洲的广大用户，并为客户提供完善的售后服务，协助他们提高生产技术水平、竞争力及增加盈利，专业从事工业测量与测试产品的销售与研发，拥有产品研发中心、研究院和生产工厂，技术力量雄厚。
产品简介
SI 500为研发和小批量生产应用提供*的ICP刻蚀工艺，具备高度的灵活性和模块化设计特点,可实现范围广泛的刻蚀工艺。包括刻蚀III-V化合物、II-VI化合物、介质、石英、玻璃、硅和硅化合物等。
SI 500C低温ICP刻蚀机，可在-100℃左右的低温下实现深硅刻蚀。优点是刻蚀后形成非常光滑的侧壁，尤其在光学应用上非常重要。同时低温刻蚀工艺的高刻蚀速率可实现刻穿样片。
SI 591 采用模块化设计、具有高度灵活性，适用于III-V 化合物、聚合物、金属盒硅刻蚀工艺，可配置为单反反应腔系统、或带预真空室或片盒站的多腔系统。特别适用于采用氟基气体的工艺，具有很高的工艺稳定性和重复性。
型号
SI 500 | ICP刻蚀机 | -30~+200℃ |
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SI 500C | 低温ICP刻蚀机 | -150~+400℃ |
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SI 500-30 | ICP刻蚀机 | 带预真空室 | zui大12寸晶圆 |
SI 591 | 反应离子刻蚀机 | 带预真空室 |
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Etchlab200 | 反应离子刻蚀机 | 不带预真空室 |
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SI500-RIE | 反应离子刻蚀机 | 带预真空室 | 带氦气背冷却系统 |
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