分子束外延沉积速率监测/控制系统2 返回列表页

·交叉离子源，束接收角同轴的横断面呈±35°

·离子源控制，用于软离子化和表观电势质谱

·2mm束接受孔，以利特殊使用者操作

·一级过滤处增加射频，抗污染物能力增强
·内置UHV兼容的水冷却罩   
·通过RS232、USB或Ethernet连接计算机，MASsoft软件控制

·质量数范围：        1～300 amu（标准配置）

                             500amu（选配）

·扫描速度：           100amu/s

·最小扫描步阶：     0.01amu

·检测浓度：           5ppb～99%

·稳定性：              24h以上，峰高变化小于±0.5%

·监测极限：     30 ions/s
·监测生长速率：     1Å / min，或更低

XBS Monitor for the Molecular Beam Epitaxy Process (390 KB)

Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB)