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薄膜厚度测量仪ST5030-SL
技术参数：
活动范围
测量范围 100Å~ 35㎛(Depends on Film Type)
光斑尺寸 40㎛/20㎛,4㎛(option)
测量速度 1~2 sec./site (fitting time)
应用领域 All Capability of ST2000 & More Precision Measurement
Intended for Large Size Wafer Measure
选择 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST)
Anti-vibration table
接物镜转换器 Quintuple Revolving Nosepiecs
焦点 Coaxial Coarse and Fine Focus Controls
附带照明 12v 100W Halogen Lamp
主要特点：
·标准模型
·工业规格
·自动的X-Y平台
·自动调焦
·半导体和裂变产物探测
尺寸 500 x 750 x
重量
类型 自动
测量型号 ≤ 4"
测量方法 无连接的
测量原理 反射计
特征
测量迅速，操作简单
非接触式，非破坏方式
优秀的重复性和再现性
2D/3D 映射和造型
自动机械活动控制
电荷耦合器件照相机
自动调焦
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