详细摘要： PAS5500/1150C193nm步进扫描系统能够实现成本效益的90nmArF批量生产
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-16 在线留言
青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： PAS5500/1150C193nm步进扫描系统能够实现成本效益的90nmArF批量生产
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详细摘要： ASML推出了一种用于0.35微米成像的新型i-line光刻系统，旨在帮助客户从0.5微米以上的制造技术过渡到更严格的分辨率
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详细摘要： PAS5500/350C是一款深紫外步进器，适用于0.15-μm及以上的应用
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详细摘要： 4x投影镜头，与ASML的AERIAL照明器相结合，可提供280nm分辨率
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详细摘要： ASMLi-line光刻机PAS5500/450F是i-line步进器系列的、的产品之一
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详细摘要： ASMLi-line光刻机PAS5500/60是具有自动100mm晶圆盒处理能力的i-line系统
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详细摘要： ASMLDUV光刻机PAS5500/750E扫描仪是ASML针对200毫米晶圆分辨率要求低于0.15微米的解决方案
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详细摘要： ASML二手翻新现货ARF光刻机AT:1100是一款步进式ARF扫描仪，可在300mm的晶圆上进行100nm体积的生产
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详细摘要： Nikon尼康二手i-lineStepperi线光刻机NSR2205i11D生产于1997年，解析度≤350nm
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详细摘要： CLEANTRACK™LITHIUS™是一款300/200mm涂布机/显影机
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详细摘要： SCREEN单片式半导体清洗设备SU3100具有8个内置腔室，吞吐量能够达到300wph
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详细摘要： CS4800提供高质量的SEM成像、改进的测量精度以及快速、自动化的操作，旨在提高现有生产线的生产力和运营效率，并提高客户的过程控制能力
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详细摘要： SEMVisionG2的检测组装和处理使微小和浅缺陷的高质量地形图像成为可能
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详细摘要： HITACHIKOKUSAIAsherRAM-8500ZX，针对于8英寸晶圆Asher设备，生产于1996年
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