详细摘要： Surfscan®SP2和SP2XP系统是KLA革命性的SurfscanSP1平台的第二代产品，用于无图案晶圆检测
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
青岛佳鼎分析仪器有限公司
青岛佳鼎分析仪器有限公司
详细摘要： Surfscan®SP2和SP2XP系统是KLA革命性的SurfscanSP1平台的第二代产品，用于无图案晶圆检测
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
详细摘要： TOPCON拓普康芯片外观检测设备Vi4202可以全自动检查在晶片上图案化的芯片和在扩展前切割的晶片（表面朝上/背面朝上）中的微小异物和缺陷，并以芯片为单位确定...
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
详细摘要： AspenIII基于具有接地法拉第屏蔽的专有ICP源设计，为半导体制造商提供经过生产验证且具有成本效益的剥离和蚀刻解决方案
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
详细摘要： SET倒装键合设备NEOHB是一种在独立或全自动模式下为±1um@30精度设计的倒装式键合器(EFEMJ)，适用于混合/直接键合工艺
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
详细摘要： ASMLDUV光刻机PAS5500/750FDUV步进和扫描系统使用成熟的248-nmKrF技术实现130nm量产
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
详细摘要： ASML浸没式光刻机XT:1900i是XT：1700Fi的自然扩展，通过提供40nm的半间距分辨率，支持半导体行业所要求的设备缩小的持续驱动器
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
详细摘要： ASML二手i-line光刻机PAS5500/80，具有500nm分辨率和为4英寸晶圆设置，但可转换为3英寸或6英寸平台，21mmx21mm视场大小，1.3&m...
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-15 在线留言
详细摘要： ASMLKrF光刻机PAS5500/850C248nm步进-扫描系统可实现110nm的批量生产
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： ASMlKrF光刻机PAS5500/850D248nm步进扫描系统支持110nm量产
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： PAS5500/8TFH-AKrF步进扫描系统是一种专用的光刻工具，用于在125毫米、150毫米和200mmAlTiC晶片上生产薄膜头(TFH)
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： TWINSCANXT:1000H248nm步进扫描系统是一种新型双级KrF光刻工具，具有业界的NA和生产率，设计用于200mm和300mm晶圆生产
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： TWINSCANXT:1250–一款0.85NA、193nm量产光刻扫描仪，可将成像扩展到200mm和300mm晶圆上的65nm节点
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： 随着TWINSCANXT：1400Ei的发布，使用ArF浸入式光刻生产65nm体积现在成为现实
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： ASMLHoldingNV(ASML)于2006年末推出了其的TWINSCAN系统，这是一种*的193纳米(nm)曝光系统，具有成像、覆盖和吞吐量改进的特点
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，专为45纳米及以下分辨率的300毫米晶圆批量生产而设计
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
详细摘要： TWINSCANXT:400G365nm步进扫描系统是一种超高生产率的双级光刻工具，专为350nm分辨率的300mm晶圆批量生产而设计
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
仪表网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
