详细摘要： 产品概述去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理
产品型号：P-MD所在地：上海更新时间：2023-11-01 在线留言上海蒲柘光电仪器有限公司
上海蒲柘光电仪器有限公司
详细摘要： 产品概述去胶工艺是微加工过程中一个重要的过程，在电子束曝光，紫外曝光等微纳米加工工艺后，都要对光刻胶进行去除或打底膜处理
产品型号：P-MD所在地：上海更新时间：2023-11-01 在线留言
详细摘要： 产品概述台式等离子清洗机P-T，对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性，地清除样品表面的有机污染物
产品型号：P–T所在地：上海更新时间：2023-11-01 在线留言
详细摘要： 产品概述P-M是一款将真空式等离子体技术应用于各种不同领域的研究性操作平台，除了实现常规清洁样品和表面改性的功能外，通过添加不同的功能模块，可以实现等离子体镀膜...
产品型号：P-M所在地：上海更新时间：2023-11-01 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
艾本德单道固定量程移液器Reference 2 移液器/移液枪
Eppendorf Reference2 面议
艾本德单道可调量程移液器Reference 2 移液器/移液枪
Eppendorf Reference® 面议
仪表网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
