上海全耀仪器设备有限公司
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MProbe RT薄膜测厚仪
该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如：氧化物，氮化物，光刻胶，高分子聚合物，半导体(硅，单晶硅，多晶硅)，半导体化合物(AlGaAs, InGaAs，CdTe, CIGS)，硬涂层(碳化硅，类金刚石炭)，聚合物涂层(聚对二甲苯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚酰胺)
测量范围: 1 nm -20um(UVVis)，1nm-150um(UVVisNIR)
波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis)
200nm-1700nm(UVVisNIR)
适用于实时在线测量，多层测量，非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料)，新材料可以很容易的添加，支持多重算法：Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等；
蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率，波长范围(200-1700nm)：
系统性能参数：
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 准确度 | <0.2% or 1 nm |
| 稳定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 光斑直径 | 标准2mm, 可以小至3um |
| 样品大小 | 大于1 mm |
测量指标：薄膜厚度，光学常数
界面友好强大: 一键式测量和分析。
实用的工具：曲线拟合和灵敏度分析，背景和变形校正，连接层和材料，多样品测量，动态测量和产线批量处理。
技术参数：
| 测量范围 | 1nm-50um 或1nm-150um |
| 精度 | <0.1nm or 0.01% |
| 准确度 | <0.2% or 1 nm |
| 稳定性 | <0.05nm or 0.03% |
| 波长范围 | 200-1000nm 或 200-1700nm |
| 光谱仪和检测器 | F4光谱仪，3600像素CCD检测器，16位深 |
| F3光谱仪，512像素InGaAs 检测器 | |
| 光谱分辨率 | 2nm（UVVis），4nm（NIR） |
| 光源 | 20W卤钨灯（添加氙），色温3100，寿命：2000小时 |
（内部结构示意图）
我们乐意为您进行免费样品测量，欢迎。
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