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详解磁控溅射技术2023/3/22
一、磁控溅射的工作原理：磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，具有沉积温度低、沉积速度快、所沉积的薄膜均匀性好，成分接近靶材成分等众多优点。磁控溅射的工作原理是：在高真空的条件下充入适量的...
NRE-4000型RIE-HCP系统有什么优势2022/7/28
我们的优势｜NRE-4000型RIE-HCP系统NANO-MASTERNRE-4000型RIE-HCP系统，用于高速刻蚀硅、SiO2和Si3N4基片，通过配套HCP高密度中空阴极等离子源，系统可以支持...
NLD4000型原子层沉积案例解析2022/7/25
NANO-MASTERNLD-4000型等离子增强原子层沉积系统可以提供高品质的薄膜沉积，通过配套ICP离子源系统可以支持PEALD和T-ALD等广泛应用。众多的优势配置，使得NLD-4000型系统具...
我们的优势｜离子束刻蚀2022/7/25
我们的优势｜离子束刻蚀NANO-MASTER的离子束刻蚀系统有很强的适应性，可以根据不同的应用建立不同的结构，不同的样品台和离子源配置可实现不同的应用范围。系统中的样品台可实现正负90°倾斜、旋转、水...
带你一文领略磁控溅射2022/7/25
主要功能：主要用于半导体应用，及各种需要进行微纳工艺溅射镀膜的情形。可以用于金属材料（金、银、铜、镍、铬等）的直流溅射、直流共溅射，绝缘材料（如陶瓷等）的射频溅射，以及反应溅射能力。基片可支持硅片，氧...
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