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上海德竹芯源科技有限公司

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商铺产品：167条

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等离子体刻蚀系统

详细摘要： SYSKEY可提供反应离子刻蚀和电感耦合反应离子刻蚀，支持 8 英寸样品。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-11 在线留言
R-200 Advance 原子层沉积系统

详细摘要： Picosun R-200 系列原子层沉积系统是一款多功能的原子层沉积平台，是用于研发的理想选择，适用于 IC 器件、MEMS 器件、显示器、LED、激光器以及...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-11 在线留言
多腔互联镀膜系统

详细摘要：多腔互联镀膜系统可满足器件样品在全真空环境下制备，所有膜层之间不接触空气，有利于器件性能的提高，通常多腔体系统可集成多种薄膜沉积技术和薄膜前后处理技术。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-11 在线留言
R-200 Standard 原子层沉积系统

详细摘要： PICOSUN® R-200 标准 ALD 系统适用于数十种应用的研发，例如 IC 组件、MEMS 设备、显示器、LED、激光器和 3D 对象，例如透镜...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-11 在线留言
P-300B 原子层沉积系统

详细摘要： PICOSUN™ P-300 系统拥有的热壁、独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和的电学和光学性能的高质量...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-11 在线留言
VF-1000 手动研发立式炉管

详细摘要：这款用于实验和研发的小规模生产立式炉管实现了高质量的处理。该立式炉管很紧凑，只需要很小的安装面积，但可用于各种直径的晶圆，具有与量产炉相同的温度特性。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
TS系列低压化学气相沉积LPCVD

详细摘要：低压化学气相淀积（LPCVD）是在低压条件下通过气体混合的化学反应在硅片表面淀积一层固体膜的工艺。例如：氮化硅薄膜淀积、多晶硅薄膜淀积、非晶硅薄膜淀积、二氧化硅...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
TS系列常压氧化/扩散炉APCVD

详细摘要：适用于常压干氧氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化、扩散、退火/推进、合金等工艺。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
VF-3000 自动立式炉管

详细摘要：这款配有自动输送机的低成本立式炉管可用于从研发到批量生产 4 至 8 英寸晶圆的一系列功能。提供超高温处理，非常适合功率器件制造。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
电子束蒸发镀膜系统

详细摘要：对传统热蒸发技术难以实现的材料蒸发，可采用电子束蒸发的方式来实现。不同于传统的辐射加热和电阻丝加热，高能电子束轰击可实现超过3000℃的局域高温，这使得绝大部分...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
Q235 等离子去胶机

详细摘要：主要应用晶圆显影后的底胶去除或者干法蚀刻工艺后变性的光刻胶去除，光刻胶的去除及对样片是否有损伤，将影响到后续工艺和器件的性能。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
磁控溅射镀膜系统

详细摘要：磁控溅射是物理气相沉积技术 (Physical Vapor Deposition, PVD) 的一种。一般用于制备金属、半导体、绝缘体等薄膜材料，具有设备简单、...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
ASTRO PACT-10H 等离子去胶机

详细摘要：主要应用晶圆显影后的底胶去除或者干法蚀刻工艺后变性的光刻胶去除，光刻胶的去除及对样片是否有损伤，将影响到后续工艺和器件的性能。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
Inducer-5560 Si/SiC激光隐形切割设备

详细摘要：本设备是利用超短脉冲激光实现碳化硅晶圆高质量、高效率的切割加工。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
等离子体增强原子层沉积系统

详细摘要：金属有机物前驱体和反应气体在真空腔体交替填充、覆盖且反应，形成原子级精度（厚度和原子排布）的薄膜。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
等离子体光谱仪/OES/PES

详细摘要：等离子体光谱仪器Crookesl，针对半导体等离子体工艺设备开发，兼具原位监控和谱线分析功能，解决等离子体工艺稳定度监控，等离子体工艺过程监控，等离子体工艺实时...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
SWA-20US SiC激光退火设备

详细摘要： SWA-20US 适用晶圆尺寸 6 寸及以下晶圆激光退火，具有晶圆厚度检测、激光功率检测、激光束图形检测、激光焦点检测功能。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
等离子体增强化学气相沉积系统

详细摘要：等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种利用等离子体为沉积反应提供能量的化学气相沉积(CVD)技术。PECVD可替代传统CVD在较低的温度下沉积各种薄膜，且...
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-10 在线留言
热蒸发镀膜系统

详细摘要：在真空环境下用热阻丝加热的方式将材料加热到蒸发，真空腔室内的基片和衬底表面会形成薄膜或涂层，此过程被称为真空热蒸镀，加热材料的方式主要有热舟式和坩埚式。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-09 在线留言
等离子体增强原子层沉积系统

详细摘要：金属有机物前驱体和反应气体在真空腔体交替填充、覆盖且反应，形成原子级精度（厚度和原子排布）的薄膜。
产品型号：ALD-SC6-PE / ALD-SC8-PE/ ALD-SC12-PE所在地：上海更新时间：2024-01-19 在线留言