详细摘要： EVG 610 光刻机主要应用于半导体、微电子、光电、生物医疗等领域，在生产精密电子元件、微型机械元件和光学元件等方面有着广泛的应用。
产品型号：所在地：上海更新时间：2024-08-12 在线留言上海德竹芯源科技有限公司
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详细摘要： EVG 610 光刻机主要应用于半导体、微电子、光电、生物医疗等领域，在生产精密电子元件、微型机械元件和光学元件等方面有着广泛的应用。
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详细摘要： EVG 620NT 光刻机主要应用于半导体、微电子、光电、生物医疗等领域，用于生产精密电子元件、微型机械元件和光学元件等。
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详细摘要： EVG 510 是一款高效率的微结构光刻机。主要用于多层芯片制造，特别适用于需要高精度、高效率、低成本和高产量的高科技领域。
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详细摘要： EVG 520IS 是一款高效的芯片键合系统，这种系统是一种高效、灵活的解决方案，用于提供高精度的晶元键合以及片上结构，以满足微电子制造的需求。它的特点是采用高...
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详细摘要： EVG 的 805 解键合系统是一种高效的解键合解决方案，用于制造各种微电子器件，特别适用于高频、高功率等特殊需求。
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详细摘要： EVG 620BA 对准系统是 EVG 公司生产的一种光学对准系统。主要用于帮助用户精确地对齐样品，以确保高质量的光学处理。EVG 620BA 对准系统具有高精...
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详细摘要： HP-150热板应用于光刻、MEMS 或相似工艺中，为提供精准的前烘和后烘工艺而存在。温度范围默认可达到 250°C。设定温度与实际温度之间几乎无偏差，可达到非...
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详细摘要： HP-200 热板应用于光刻、MEMS 或相似工艺中，为提供精准的前烘和后烘工艺而存在。温度范围默认可以达到 250°C。设定温度与实际温度之间几乎无偏差，可达...
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详细摘要： SM-150 是手动或半自动薄膜涂覆的优选，适用于表面没有或有非常低形貌的基板涂胶作业。大多光刻胶与涂层材料都可被均匀涂覆到尺寸为150 mm (6")的晶圆或...
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详细摘要： 半自动匀胶机 SM-200 可处理没有或表面结构非常低的衬底。SM系列，拥有高水平的均匀性和重复性。所有商业光阻剂都可被均匀涂布。针对多种多样的应用设计的专用卡...
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详细摘要： 针对具备高度结构化晶圆形貌、深度 MEMS 结构或不平整表面特征的基板，SAWATEC 公司的 iSPRAY-300 能确保尽可能均匀的喷涂效果。它是一款精密的...
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详细摘要： 对曝光后的光刻胶进行显影是很关键的一步，因此需要谨慎选择显影工艺和显影剂。半自动显影机 SMD-200 可保证即使再厚的胶层均可实现高超的显影工艺效果，低化药消...
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详细摘要： SM-200/HP-200 组合式系统 SAWATEC 的 SM-200/HP-200 是由 SM-200 匀胶和 HP-200 热板组成的一个紧凑的柜式机，这...
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详细摘要： Depolab 200 是 SENTECH 开发的高性价比等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备，它结合了用于均匀薄膜沉积的平行板电极设计和直接载片的成本效...
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详细摘要： SI 500 D 是基于平行板三螺旋天线（PTSA）设计的平行板电极式电感耦合等离子体化学气相沉积（ICP-CVD）设备，PTSA射频等离子体源可有效地提高等离...
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详细摘要： SI 500 PPD 等离子体增强化学气相沉积系统采用经典平行板电极设计，兼容低温沉积工艺。
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详细摘要： SI 500 基于 ICP 等离子体源 PTSA，动态温度控制的衬底电极，全自动控制的真空系统，使用远程现场总线技术的的 SENTECH 控制软件和用于操作 S...
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详细摘要： Etchlab 200 RIE 等离子刻蚀机代表了直接置片等离子刻蚀机家族，它结合了 RIE 的平行板电极设计和直接置片的成本效益设计的优点。
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详细摘要： SENTECH 多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂，可适用于三至六个端口。可使用多达两个片盒站来增加产量...
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