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光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2是通过激光散射方式对曝光工艺中光掩模上的细小颗粒进行检测的装置。可检测光掩模图案面(Pattern ...
外形小巧、运营成本低、应用范围广光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统PR-PD3系列产品运转效率高,具有*稳定性,受到众多半导体制造工厂的高度评价。继...
半导体工厂对高效和功能性有很高的要求,而Horiba PD系列正因良好的操作性及*的稳定性享有盛誉。光掩模(Reticle/Mask)颗粒探测系统 PR-PD2...
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