上海昭沅仪器设备有限公司
氮化硅膜可用作软X射线接触显微术的衬底支持膜,成像后直接进行透射电镜观察;可作为同步辐射光束线中的污染阻挡层;可以成为制作各种光学波带片的衬底薄膜;可以作为投影显微术靶的支持膜;可以用作真空窗口,在同步辐射软X射线显微术中,隔开光源超高真空与显微术光学元件高真空部分;在活样品室设计中,隔开高真空的软X射线部分与大气压,使样品在大气中曝光,这对于研究生物活细胞具有重大意义。
薄膜厚度 | 窗口面积 | 压力差 |
≥50 nm | ≤1.0 x 1.0 mm | 1 atm |
≥100 nm | ≤1.5 x 1.5 mm | 1 atm |
≥200 nm | ≤2.5 x 2.5 mm | 1 atm |
薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 型号 |
50-200nm | 1.5X1.5mm | 5.0X5.0mm | RISUN |
50-200nm | 2.5X2.5mm | 7.5X7.5mm | |
50-200nm | 3.0X3.0mm | 10X10mm | |
50-200nm | 5.0X5.0mm | 10X10mm |
薄膜厚度 | 窗口尺寸 | 框架尺寸 | 型号 |
50nm | 2x2阵列,1.5X1.5mm | 5.0X5.0mm | RISUN |
50nm | 3x3阵列,1.5X1.5mm | 7.5X7.5mm | |
100nm | 4x4阵列,1.5X1.5mm | 10X10mm |
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