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KRI 聚焦离子源 RFICP 220 辅助磁控溅射镀制 3D 膜2020/10/14
某国内3D玻璃制造商采用伯东KRI聚焦射频离子源RFICP220辅助磁控溅射镀制3D玻璃膜,以获取高品质3D玻璃膜.其磁控溅射镀膜工艺流程如下图:磁控溅射镀膜原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程...
伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 160 辅助镀制 HfO2 薄膜2020/10/12
传统直接蒸发HfO2块材料,容易产生节瘤缺陷,吸收很大,限制了薄膜的激光损伤阈值,因此,为了获取高质量的HfO2薄膜,某机构采用KRI考夫曼离子源KDC160辅助镀制HfO2薄膜.客户的样品基底材料为...
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