Hakuto 全自动离子刻蚀机 MEL3100 用于刻蚀薄膜磁盘2020/11/25

某薄膜磁盘制造采用Hakuto全自动离子刻蚀机MEL3100用于刻蚀薄膜磁盘,去除溅射镀制磁盘薄膜的污染物和提高薄膜的均匀性.Hakuto全自动离子刻蚀机MEL3100技术参数:ModelMEL310...

Hakuto 离子蚀刻机 7.5IBE 用于刻蚀硅微机械陀螺芯片2020/11/24

Hakuto离子蚀刻机7.5IBE用于刻蚀硅微机械陀螺芯片某芯片实验室为了解决芯片湿法刻蚀难以解决的横向腐蚀问题,引进伯东Hakuto离子蚀刻机7.5IBE用于刻蚀硅微机械陀螺芯片.Hakuto离子蚀...

Hakuto 离子蚀刻机 10IBE 刻蚀碳化硅微光学元件2020/11/23

某光学元件制造商为了优化碳化硅微光学元件,降低碳化硅微光学元件表面粗糙度,采用Hakuto离子蚀刻机10IBE对其进行优化.Hakuto离子蚀刻机10IBE技术参数:基板尺寸样品台直接冷却（水冷）0-...

伯东离子刻蚀机 IBE 用于金铜镍银铂等材料微米级刻蚀2020/11/19

Hakuto日本原装设计制造离子刻蚀机IBE,提供微米级刻蚀,满足所有材料的刻蚀,即使对磁性材料,金铜镍银铂等金属及复合半导体材料,这些难刻蚀的材料也能进行微米级刻蚀.伯东离子刻蚀机IBE组成主要包含...

伯东 KRI 考夫曼射频离子源在 PCB 钻头铣刀上的应用2020/11/13

电子工业的飞速发展对线路板制造业的要求越来越高,线路板层数越来越高,孔密越来越大并向微孔化不断发展,某国内制造商为了铣刀进行铣边及成型加工时,减少产品的披锋、毛刺及铣刀断刀,采用伯东KRI考夫曼聚焦型...

伯东 KRI 离子源 RFICP220 用于钟表行业镀制纳米薄膜2020/11/12

现代钟表产品愈加青睐新材质的应用与设计,这也是现代钟表产品顺应市场需求和客户体验的直观表现,不锈钢表面纳米薄膜涂层具有低摩擦,高耐磨,高耐蚀和高生物相容性等技术特点,因此在国外中手表产品已广泛应用.某...

伯东 KRI 考夫曼射频离子源用于纯钛表面氨基化改性的研究2020/11/11

某机构为了研究离子源处理纯钛材料表面的时间长短对纯钛材料表面生物活性及亲水性的影响,采用伯东KRI考夫曼射频离子源RFICP380用于纯钛表面氨基化改性的研究.试验样品:8mmX8mm的厚度1mmde...

KRI 考夫曼射频离子源 用于制备超薄 TEM 样品2020/10/26

普通传统的制样减薄方法存在远端的薄区极易弯曲和薄区厚度不均匀的问题,因此某机构采用伯东KRI考夫曼聚焦型射频离子源RFICP380通过交叉减薄的方法制备超薄TEM样品.交叉减薄交叉减薄的过程利用TEM...

伯东 KRI 考夫曼霍尔离子源清洗 PPS/ PEEK 衬底面2020/10/23

为了获得具备电磁屏蔽能力的PPS,PEEK等高分子轻量化材料,但PPS,PEEK导电性能差、无电磁波屏蔽能力或者达不到理想的屏蔽效果,因此,某机构采用磁控溅射镀膜工艺对PPS、PEEK等材料结构件产品...

KRI 射频离子源用于透明导电薄膜及性能研究试验2020/10/22

某实验室运用直流磁控溅射法,采用ZAO陶瓷靶材,结合正交试验表通过改变制备工艺中的基片温度、溅射功率、氧流量百分比等参数,在普通玻璃衬底上制备得到ZnO:Al（ZAO）透明导电薄膜.试验设备:伯东KR...

伯东 KRI 聚焦型射频离子源辅助磁控溅射沉积氧化铟锡 ITO 薄膜2020/10/21

伯东KRI聚焦型射频离子源辅助磁控溅射沉积氧化铟锡ITO薄膜氧化铟锡ITO薄膜具有高电导率和可见光透过率、紫外光区强吸收、红外区域高反射等特性,已经广泛应用于太阳能电池、等离子体液晶显示器以及平板显示...

KRI 射频离子源和 分子泵组用于溅射沉积 Cu 薄膜2020/10/20

KRI射频离子源RFICP380和分子泵组用于溅射沉积Cu薄膜薄膜表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有重要关系,直接决定机械产品的使用寿命和可靠性.因此,某薄膜制...

KRI 离子源用于离子束溅射镀制 Ge 纳米薄膜的研究2020/10/19

KRI离子源用于离子束溅射镀制Ge纳米薄膜的研究在硅衬底上生长Ge量子点呗认为是可能实现Si基发光的重要途径,对Si基光电子、微电子或单电子器件有重要影响.某研究所采用伯东KRI离子源用于离子束溅射镀...

伯东 KRI 双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜2020/10/16

伯东KRI双离子源辅助离子束溅射技术获取高反射吸收Ta2O5薄膜为了获取高性能紫外激光薄膜元件,急需研制紫外高吸收薄膜,某研究所采用伯东KRI双离子源辅助离子束溅射沉积技术镀制Ta2O5薄膜进行研究....

KRI 射频离子源 RFICP 380 辅助离子束溅射镀SiO_2薄膜2020/10/15

二氧化硅(SiO_2)薄膜具有硬度高、耐磨性好、绝缘性好等优点常作为绝缘层材料在薄膜传感器生产中得到广泛应用.某光学薄膜制造商为了获得高品质的SiO_2薄膜引进伯东KRI聚焦型射频离子源RFICP38...