上海续波光电技术有限公司
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本磁控溅射镀膜系统可以沉积各种金属、半导体、非金属薄膜，又特别适合用于超导量子结、约瑟夫森结等量子器件的制备，例如：超导Nb、NbN、NbTiN等，典型用户包括：格拉斯哥大学、法国波尔多*大学、法国科学研究中心（CNRS）、CEA、加拿大滑铁卢大学等。欢迎索取详细资料！
关键词：PVD，物理气相沉积，磁控溅射，微机电系统，MEMS, 量子器件，约瑟夫森结，Nb, NbN, NbTiN
磁控溅射镀膜系统——用于超导体（Nb, NbN, NbTiN ）
圆柱形主腔体：电抛光不锈钢
低温泵+干泵，真空度< 4×10 -8 Torr。
三个6’’ DC磁控靶源，zui大可达8英寸；
分别配备独立挡板，无交叉污染。
RF加载到DC靶源可选，可用DC/RF。
氩气和氮气气路可用
4’’衬底加热：zui高750℃, 均匀性5℃内；单色光学高温计
样品台冷却：水冷
石英晶振监测（DC/RF模式下均可）
衬底RF刻蚀及偏压（13.56MHz，气冷）
LOAD LOCK （带自动传动手臂）
分子泵+干泵，真空度< 2×10-7 Torr
全自动传动衬底
控制单元：全自动电脑控制，半自动和手动模式可选；远程维护可用。
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